SEMICONDUCTOR EVIDENCE ATLAS · V2.0 · 2026-10-17

세계 반도체 생산·메모리·EUV·공정·투자 이력

웨이퍼에서 DRAM·HBM·NAND, 장비 대수와 제조기술까지 확장한 출처 기반 연구 데이터

1,663전체 근거 기록
884이번 확장 기록
472출처 레코드
154지표 코드

65개 회사·역사적 그룹 + 산업 집계 3개 · 원문 URL 448개 · 기존 웨이퍼 779행 보존
수치·제품 사양·이정표·계획·공개 공백을 포함합니다. 모든 행이 생산량 실측값인 것은 아닙니다.

조사 범위와 핵심 결과

2026년 10월 17일까지 확인한 공개 자료를 기준으로 기존 웨이퍼 연구를 확장했습니다. 공시·연차보고서·기업 기술 발표·산업협회 자료를 우선 사용했고, 월간 생산능력 등 공식 자료가 부족한 항목은 2차 자료 추정으로 구분했습니다. 회사명은 공장 위치를 뜻하지 않으며, 법인·사업부·합작 생산 범위가 다른 숫자를 통합하지 않았습니다.

확장 분야기록출처포함 범위
EUV·DUV 노광장비 대수205242009–25 노광장비 판매·신품/중고; 2010–25 EUV; 2011–25 기술별 대수; 2026 Q1–Q3·상반기; 일부 실제 출하
미세공정·응용처·첨단 패키징15022TSMC 2015–25 노드 매출 비중, 2017–25 플랫폼; CoWoS·SoIC·InFO·EMIB·Foveros
DRAM·HBM 출하·가격·제품 이력14539삼성·SK hynix·Micron; bit/ASP·적층·용량·대역폭·샘플/양산·월간 능력 추정
NAND·저장장치·SOI·SiC11355Micron FY2015–26, 주요 NAND 세대·층수·소재·소유권 경계
고객별 EUV·High-NA 도입 이력5238ASML·Intel·TSMC·Samsung·SK hynix·Micron의 주문/출하/설치/인수/양산
중국 DRAM·제품·생산능력3510CXMT·JHICC; 제품 단계와 과거 출처 전망 능력 분리
설비투자·R&D·감가상각10426TSMC 2001–25 CAPEX; Samsung 2016–25; Micron FY2023–26; R&D·D&A
지역별 반도체 제조장비시장805SEMI/SEAJ 2016–25, 7개 지역과 세계 합계; 장비 billings 금액

이번 확장에서 확인한 사례

  • ASML 2025년 EUV 매출 인식은 48대 = Low-NA 44대 + High-NA 4대입니다. 고객이 보유한 총 장비 대수가 아닙니다. EQAS_AR2025
  • TSMC 2025년 3/5/7nm의 웨이퍼 매출 비중은 각각 24% / 36% / 14%, HPC 순매출 비중은 58%입니다. HPC 전체를 AI 전용으로 분류하지 않았습니다. PKG004
  • Micron FY2026 NAND ASP는 약 +200%로 공시되지만, 같은 회계연도 비트 출하 증가는 정성 구간으로 제시됩니다. 임의 숫자 하나로 바꾸지 않았습니다. NAND08
  • 2025년 세계 반도체 제조장비 billings는 원표 기준 1,350.6억 달러(135.06 billion USD)입니다. EUV 장비 대수·WFE 전용 투자와 모집단이 다릅니다. EQM05

핵심 이력과 해석

2026년 10월 17일을 자료 확인 기준일로 삼아, 기존 웨이퍼 생산량·생산능력 조사에 DRAM/HBM, NAND·저장장치·특수기판, 중국 메모리, EUV 고객 도입, ASML 장비 판매, 반도체 장비시장, 공정·첨단 패키징, 설비투자·회계 지표를 연결했다. 회사·제품·공정·기간·단위·모집단·실적/계획 상태와 출처 ID를 함께 보존했다. 회사별 모든 연도의 실제 생산 장수를 확보한 완전한 패널은 아니다. 공개되지 않았거나 접근할 수 없는 값은 결측이며 0이 아니다.

기본 구분은 물리적 웨이퍼 생산·투입·출하, 생산능력, 판매 비트, 가격, 제품 사양, 기술 사건, 장비 수, 투자금액이다. 생산능력은 특정 시점 설비가 낼 수 있는 잠재 처리량이며 실제 가동·수율·제품 구성에 따라 실적과 달라진다. 출하량에는 재고 증감이 개입한다. DRAM 공정 미세화나 NAND 적층·QLC 전환으로 웨이퍼 투입이 늘지 않아도 판매 비트가 증가할 수 있다. HBM 전환은 같은 비트 공급에 더 많은 웨이퍼 자원을 요구할 수 있다.

DRAM에서는 Micron의 FY2015~FY2026 공시가 출하 비트와 평균판매가격을 분리해 읽는 데 유용하다. FY2016 비트 출하는 7% 증가했지만 ASP는 35% 하락했고, FY2017에는 비트가 52%, ASP가 19% 증가했다MEM001 MEM002. FY2024의 비트 증가 ‘mid-40%’, FY2025 ASP 증가 ‘low-40%’ 같은 표현은 원문 언어 구간으로 보관했다MEM008. 이를 임의로 45%, 43% 등으로 바꾸지 않았다. 공시가 없는 값은 매출에서 역산하지 않았다. Micron FY2026은 2026-09-03에 끝난 53주 회계연도이므로 달력연도 2026 전체나 전년의 52주와 무조건 동일한 기간이 아니다MEM009.

SK hynix는 HBM을 포함한 DRAM 비트 출하가 2024년 15%, ASP가 80% 증가했다고 공시했다MEM010. 가격·고부가 제품 구성 변화가 매출에 크게 작용했음을 보여 주지만 웨이퍼 생산이 80% 증가했다는 뜻은 아니다. 2024년 3분기 HBM 매출은 DRAM 매출의 30%였고, 4분기 40%는 당시 전망이었다MEM027. 삼성의 2024년 4분기 DRAM ASP 약 20% 상승과 출하 비트의 low-teens 감소도 같은 구분이 필요한 사례다MEM011. 매출·비트·웨이퍼 비중은 서로 대체할 수 없다.

HBM 이력은 개발, 샘플, 고객 검증, 양산 준비, 양산, 상업 출하를 별도 단계로 읽어야 한다. 삼성은 2016년 4GB HBM2 양산, 2024년 4월 HBM3E 8H 양산을 발표했다MEM012 MEM016. Micron은 2024-02-26 HBM3E 8H 볼륨 생산을, SK hynix는 2024-03-19 HBM3E 볼륨 생산과 2024-09-26 36GB 12단 양산을 발표했다MEM029 MEM021 MEM022. 8단·12단 전환과 고객 공급 시점은 별도 사건이다.

HBM4에서도 SK hynix의 2025년 3월 샘플, 9월 개발 완료·양산 체제 준비, 2026년 1월 고객 동시 공급은 구분된다MEM023 MEM024 MEM025. 삼성은 2026-02-12 HBM4 양산·상업 출하를 발표했고, 같은 해 5월 HBM4E 12단은 샘플 출하 단계였다MEM017 MEM018. Micron은 2025년 6월 HBM4 12단 샘플 이후 FY2026 양산을 보고했으며, HBM4 16단은 주요 고객에게 샘플을 전달한 단계다MEM030 MEM009. 과거 계획은 뒤에 달성되더라도 그 과거 행의 계획 상태를 실적으로 바꾸지 않는 편이 예측 학습에 적합하다.

36GB/stack, 12 DRAM dies/stack, 핀 속도 Gb/s, 스택 대역폭 TB/s는 제품 사양이다. 해당 사양만으로 회사의 HBM 총 생산량이나 월간 웨이퍼를 계산할 수 없다. Micron의 HBM3E 자원 소모 약 3:1은 같은 비트·같은 공정 조건에서 DDR5와 비교한 회사 설명이며 모든 HBM 세대의 고정 환산계수가 아니다. HBM4E 약 4:1도 당시 전망이다MEM033 MEM034. 수율·TSV·접합 병목도 함께 봐야 한다.

월간 메모리 웨이퍼 수는 공식 장기계열보다 외부 추정·계획이 많다. 삼성의 월 DRAM 산출량 65만~70만 장 추정은 범위 그대로 두었고, 1c DRAM 월 20만 장은 2026년 말 설비 준비·양산 준비 계획에 관한 보도다MEM037. HBM TSV 능력도 삼성의 2024년 말 계획이 서로 다른 시점 자료에서 13만 장과 12만 장으로 나타난다MEM035 MEM039. TSV 포함 범위·계획 수정 여부를 추적해야 하며 실제 웨이퍼 스타트로 합치거나 평균 내서는 안 된다.

중국 메모리는 기술 진전의 공식 확인과 생산능력 추정을 분리했다. CXMT의 8Gb DDR4 양산 발표는 2019년 9월, 판매 시작은 11월이며, LPDDR5 출시는 2023-11-28에 확인된다CNE001 CNE002. LPDDR5X 8533/9600Mbps는 2025년 5월 양산을 시작했지만 이 사실의 발표일은 10월 28일이다. 당시 10667Mbps 제품은 고객 샘플이었다CNE003. 2025년 DDR5-8000 전시는 양산 증거가 아니다CNE004. 2026년 9월에는 LPDDR6 및 G5 플랫폼 양산이 회사 발표로 확인되지만, G5의 11.95nm는 배열 AA half-pitch라서 다른 회사의 마케팅 공정명과 직접 비교할 수 없다CNE006 CNE007.

CXMT의 월 능력 2020년 4.5만 장, 2024년 21만 장, 2025년 28만 장, 2026년 29만 장은 TrendForce를 인용한 2025-10-10 증권사 자료의 추정 스냅샷이다. 특히 2025E·2026E는 당시 전망이며 실현 검증값이 아니다. 표에 직경과 연중 정확한 기준일이 없어 임의로 300mm 연간 생산량으로 환산하지 않았다CNE008. JHICC는 유통사 제품 목록과 접근 가능한 자료의 공개 공백을 남겼다. 구독 자료의 숫자를 읽지 못했다고 능력 0으로 기록하지 않았으며, 중국의 DUV·SAQP 설명을 EUV 장비 보유의 증거로 사용하지 않았다CNE009 CNE010.

NAND도 비트·가격·적층·세대를 독립적으로 다뤄야 한다. Micron FY2023은 NAND 비트 출하가 high-single-digit 증가하는 동안 ASP는 low-50s 하락했고, FY2024는 비트와 ASP 모두 low-30% 증가로 보고됐다NAND06 NAND07. 초기 Trade NAND는 IMFT의 Intel 원가 판매를 제외하는 범위여서 후속 전체 NAND와 모집단이 다르다. FY2018 원래 Trade NAND 성장 약 40%와 다음 보고서 비교 설명의 NAND 약 30%를 하나의 모순 없는 동일 시계열로 덮어쓰지 않았다NAND03 NAND04.

Micron의 176층 출하는 2020년, 232층은 2022년에 확인된다NAND34 NAND35. SK hynix의 238층 양산은 2023년, 321층 양산 발표는 2024년 11월이지만 당시 고객 공급 목표는 2025년 상반기였다NAND24 NAND25. 삼성의 공식 9x·1xx, 8세대·9세대 표기는 공개되지 않은 정수 층수로 채우지 않았다NAND15 NAND17 NAND18. Kioxia BiCS9는 2025년 512Gb TLC 120층 샘플과 2026년 1Tb TLC 230층 샘플이 있어 세대 하나에 층수 하나를 강제하면 오류가 난다NAND43 NAND44. Gb/Tb는 비트이고 GB/TB는 바이트라는 단위 구분도 필요하다.

기업·공장 경계도 생산량 연결의 핵심이다. Intel의 Dalian 자산과 SSD 사업은 2021-12-29 SK 측으로 이전됐지만 Intel의 NAND 제조 계약은 2025-03-27까지 이어졌다NAND45. Intel 제조와 SK 소유 공장 양쪽에서 더하면 중복된다. WD 플래시 사업의 Sandisk 분할 효력일은 2025-02-21이며 HDD는 NAND 생산량이 아니다NAND46. Kioxia–Sandisk 공동 공장의 웨이퍼도 양사에 각각 100% 더할 수 없다. CBA·Xtacking은 메모리 어레이와 주변회로 웨이퍼의 접합을 포함해 완성 다이와 원재료 웨이퍼 소비가 일대일이 아니다NAND41 NAND48 NAND50.

SOI·SiC는 별도 소재 계층이다. Soitec의 2023년 SmartSiC 최종 연 50만 장은 계획이었고, FY2026 자료의 Bernin4 능력은 연 15만 장이다NAND51 NAND55. 이는 실제 출하 장수가 아니다. SOI도 직경·공장별 능력, donor 재활용, 판매 기판을 구분한다. Coherent의 200mm SiC 기판·에피 출하와 Wolfspeed Mohawk Valley의 200mm 디바이스 팹은 공급망 단계가 다르므로 같은 ‘웨이퍼’라는 이유로 합산하면 안 된다NAND52 NAND53.

EUV 장비는 주문, 모듈 출하, 시스템 출하, 고객 인도, 조립, 설치, 인수시험, 가동을 구분했다. ASML은 2021년 말 최신 세대 EUV 127대가 고객 현장에서 사용 중이라고 회고했다EUV001. 2025년 1분기의 ‘다섯 번째 High NA 출하’는 분기 출하 5대가 아니라 누적 출하 이정표이고, ‘3개 고객’은 장비 대수가 아니다EUV011. 첫 사이트 설치 1대도 해당 회사 전체 보유 대수 1대를 의미하지 않는다. 폐기·이전·재판매 정보가 부족해 이 사건들의 합계로 전세계 fleet를 구성할 수 없다.

Intel은 2023년 12월 첫 EXE:5000 모듈 출하, 2024년 4월 D1X 설치 완료·보정, 2026년 EXE:5200B 설치·인수시험 통과 확인 및 일부 Intel18A/Panther Lake 특정층 대량 생산 적용이라는 단계를 거쳤다EUV003 EUV005 EUV009. 2025년 2대 시험 가동은 실명 엔지니어 발언을 인용한 Reuters 보도로 별도 신뢰 경로를 표시했다EUV008. SK hynix의 2025년 M16 EXE:5200B 조립은 양산용 장비 조립 사실이며 High NA DRAM 양산 시작이 아니다EUV029. 삼성의 DRAM High NA 2028년까지 도입, TSMC의 2030년 첨단 노드 HVM 도입은 2026년 발표 시점의 계획이다EUV026 EUV020.

TSMC의 EUV 설치 기반 점유율 약 50%와 누적 EUV 웨이퍼 처리·산출 비율 약 60%는 2020년 발표 보도이며, 2023년 설치 기반 56%, 장비 수 2019년 대비 10배·wafer moves 30배도 절대 대수가 아니다EUV015 EUV016. ASML의 다른 시점 누적 출하와 곱해 장비 대수를 만들지 않았다. Intel의 High NA 누적 100만 장 초과는 장비 인증·시험·R&D·일부 양산 전체 처리량이어서 양품 웨이퍼 생산·고객 출하와 다르다EUV010. 처리 과정의 반복·층별 노광을 분리할 수 없는 수치에는 고유 웨이퍼 수라는 의미를 추가하지 않았다.

ASML 연간 판매 표에는 또 다른 회계 시점 문제가 있다. 2022년 EUV 물리 출하는 54대, 매출 인식은 40대였고, 2023년은 출하 42대·매출 인식 53대였다EQAS_IR2022 EQAS_IR2023 EQAS_AR2022 EQAS_AR2025. Fast shipment와 고객 인수 시점 등이 달라 연도별 숫자가 어긋날 수 있다. 2024년 EUV 매출 인식 44대는 NXE 42대+EXE 2대, 2025년 48대는 NXE 44대+EXE 4대이므로 합계와 하위를 다시 더하지 않는다EQAS_AR2025_FP. 2025년 노광장비 327대와 계측·검사를 포함한 전체 시스템 535대도 범위가 다르다EQAS_AR2025. 중고 재판매는 새 장비 제조량과 구분한다.

공정·패키징 자료는 AI 수요가 생산 구성에 미치는 영향을 보완한다. TSMC 2025년 HPC는 연결 순매출의 58%, 3nm·5nm·7nm는 웨이퍼 매출의 각각 24%·36%·14%다PKG004. HPC에는 CPU·네트워크 등도 있어 AI 전용 매출이 아니다. 노드별 가격·다이 면적·수율이 달라 이 비중을 총 웨이퍼 출하량에 곱해 공정별 장수를 만들지 않았다. 2015~2016년 웨이퍼 매출은 패키징·테스트 제외 기준으로 재작성됐고 16/20nm는 원문 결합 항목을 유지했다PKG001. N2의 2025년 4분기 HVM은 실제 이정표이며 후속 공정 계획과 구분된다PKG009.

CoWoS는 2023년에 제시한 2024년 말 능력 2배 목표, 2024년 산출 2배 초과 전망, 2024년 7월에 보고한 전년 대비 능력 2배 초과 현황, 2025년 능력 2배 목표가 서로 다른 기록이다PKG013 PKG014 PKG015. 절대 월 능력·기준일·가동률 없이 이 배수들을 연결해 확정 생산량을 만들 수 없다. Backend Fab6의 연 100만 장 초과는 SoIC/InFO/CoWoS 공유 3DFabric 공정의 12인치 등가 설계능력에 관한 회사 전망이다PKG016. CoWoS 전용 능력이나 전공정 로직 스타트가 아니다. SoIC의 2022년 SRAM-on-logic 양산과 2023년 AI 제품 적용, Intel EMIB·Foveros 및 삼성 I-Cube/X-Cube의 출시·검증·사용 가능 사건도 범위를 구분했다PKG010 PKG011 PKG017 PKG018 PKG019 PKG020 PKG021 PKG022. reticle 수는 면적 척도이지 웨이퍼 장수가 아니다.

투자는 생산의 선행·동행 요인을 연구할 수 있는 금액 지표다. TSMC 2025년 CAPEX는 명목 1,272,411백만 대만달러, R&D는 246,427백만 대만달러다FIN_TS_2025. 삼성 2025년 회사 전체 설비투자 52.7조 원에 DS 47.5조 원이 포함되므로 더하면 안 된다FIN_SS_2025. Micron FY2025 현금 PPE 취득 15,857백만 달러와 비GAAP 순 CAPEX 13,804백만 달러는 서로 다른 지표이며 정부지원금·매각 정산과 함께 확인해야 한다FIN_MU_2026 FIN_MU_N2025. 감가상각·R&D 비용은 현금 설비투자와 다르고, 통화·인플레이션·회계기준 차이를 조정하지 않은 원금액을 그대로 기업 간 순위로 비교해서는 안 된다.

SEMI/SEAJ 장비시장 billings는 2016년 412.4억 달러에서 2025년 1,350.6억 달러로 확대됐다EQM01 EQM05. 2025년 목적지별 금액은 중국 493.1억, 대만 315.0억, 한국 257.5억 달러다EQM05. 지역은 장비가 판매된 시장이므로 고객 본사 국적이나 반도체 생산의 최종 귀속 국가와 다르다. 전공정·후공정·시험·기타 장비가 포함되어 EUV 대수·ASML 매출·반도체회사 총 CAPEX와 직접 합산할 수 없다. 장비 총시장 금액만으로 중국의 EUV 보유나 첨단 공정 생산량을 추론하지 않았다.

AI 데이터로 쓸 때는 대상기간과 ‘그 정보를 알 수 있었던 날짜’를 두 축으로 관리해야 한다. 2026년 발간 보고서의 2025년 실적, 2025년 10월에 회고한 5월 양산, 나중에 재작성한 과거 비교치를 과거 예측 입력에 바로 넣으면 미래 정보가 샌다. reported_actual, announced_plan, company_forecast, secondary_estimate를 학습·평가에서 분리하고, 원문 언어 구간과 범위·초과·약 수식을 보존해야 한다. 숫자 없는 이정표는 숫자 0이 아니라 사건 레코드다. 월간 능력에 12를 곱한 값도 실제 연간 생산으로 정답 처리하지 않는다.

실용적인 연결 키는 회사명만이 아니라 법인·소유/운영 경계, 제품군, 공장, 웨이퍼 직경/등가 기준, 지표 정의, 대상기간, 발표일, 출처 ID다. 하나의 원문이 여러 파일에 쓰였을 때 관측을 중복 합산하지 않고, 전체·하위·공동공장·재판매 관계를 관리해야 한다. ASML 출하일 상충과 원문 비트·바이트 오기는 검증 대상으로 남긴다EUV001 EUV002 NAND48. 공식 실제 장수의 결측은 후속 공시 수집으로 채워야 한다.

비교 전에 구별해야 하는 지표

분류저장하는 값혼동하면 생기는 오류
웨이퍼 생산 / 출하 / 능력실제 가공·판매 흐름 / 명목·설계·설치 능력월말 WPM×12를 연간 생산 실적으로 간주
DRAM·NAND bit / ASP판매 비트 증감, 비트당 가격 증감비트 성장률을 웨이퍼 장수 성장률로 대체
HBM 사양 / 매출 / TSV 능력GB/stack, H, GB/s, 매출 비중, 후공정 처리능력사양 증가를 출하 증가로 해석하거나 전공정과 후공정 능력을 합산
EUV 출하 / 매출 인식 / 설치 / 보유공급사 출하 흐름, 재무 인식 흐름, 고객 도입 사건, 특정 시점 stock출하 누계=보유대수로 계산; 최초 설치1대를 전체 fleet1대로 사용
Low-NA / High-NA / 전체 EUVNXE / EXE / 두 부분을 포함한 부모 집계전체 EUV에 EXE를 다시 더함
공정별 / 플랫폼별 매출 비중웨이퍼 매출 분모 / 연결 순매출 분모가격 차이를 무시하고 비중×총 웨이퍼로 노드별 장수 계산
CAPEX / 현금 PPE / R&D / D&A투자 정의·현금 유출·비용·비현금 상각다른 통화·정의를 합산, 정부지원 유입을 유출에 가산
개발 / 샘플 / 양산 / 상업 출하서로 다른 기술 성숙도와 고객 공급 단계샘플 발표일을 대량 양산 시작일로 사용

1. EUV·DUV 노광장비: 연간·분기·회계 인식

ASML 공시에서 장비 대수는 웨이퍼 생산량이 아니다. 이 자료는 2009–2025년 연간 노광장비 판매 대수와 신품·중고 구분, 2010–2025년 EUV 매출 인식 대수, 2011–2025년 주요 기술별 대수, 2026년 1~3분기의 판매 대수 및 High-NA 대수, 2026년 상반기의 기술별 대수를 공식 자료로 정리한다. 2009~2010년 일부 기술별 상세는 미확보이며, 숫자가 없는 구간을 0으로 채우지 않았다.

systems_revenue_recognized는 재무상 매출 인식에 대응하는 unit sales이다. systems_shipped는 ASML이 출하로 명시한 경우만 저장했다. Fast shipment 후 고객 인수가 다음 기간에 이루어지거나 bill-and-hold가 적용되면 두 시점은 다를 수 있다. 실제 2022년 EUV 출하는 54대·매출 인식은 40대, 2023년 출하는 42대·매출 인식은 53대였다. 2025년 Low-NA 출하 44대는 2026-10-14 발언에서 뒤늦게 확인한 수치이므로 AI 시계열에 미래 정보가 유입되지 않도록 source_publication_date로 가용 시점을 제한해야 한다. 출하를 누적해 설치기반이나 고객 보유 대수를 추정하지 않았다.

EUV 합계는 High-NA EXE를 포함한다. 2024년 44대는 NXE 42대+EXE 2대, 2025년 48대는 NXE 44대+EXE 4대다. 따라서 EUV 합계와 하위 유형을 재합산하면 이중계산된다. All lithography는 metrology/inspection을 제외한다. 반면 공시의 전체 net system sales 표 합계는 metrology/inspection을 포함하므로 2025년 535대와 노광장비 327대를 같은 지표로 결합하면 안 된다. 신품·중고 행과 기술별 행도 같은 총계를 다른 축으로 분해한 것이므로 상호 합산하지 않는다. 중고는 과거 판매한 장비를 재매입·정비해 다시 판매한 대수로, 신규 제조량이 아니다.

2017년은 ASC 606/842 도입 후 재작성 비교치를 사용한다(신품 173대·중고 24대·합계 197대). 원래 발표된 신품 수치와 혼합하지 않는다. 연간 2025년 원천은 2026-02-25 공개된 2025 Annual Report이다. 2026-H1은 EU-IFRS 법정 중간보고서의 실제 6개월 종료일(2026-06-28)을 보존하고, 분기·반기·연간 수치를 서로 덧셈하거나 연율화하지 않았다. 2026년 연간 출하·생산 계획과 수주액은 실적 대수로 수록하지 않았다. 출처별 공개일을 보존했으며, 나중 보고서에 실린 비교 수치는 해당 출처 공개 이전의 정보로 간주하면 안 된다.

ASML EUV 장비 매출인식 대수와 실물 출하
2010~2025년 EUV 매출인식 대수. 2024년은 Low-NA 42대+High-NA 2대, 2025년은 44대+4대다. 2022·2023년의 실물 출하와 매출인식 대수는 별개로 비교했다. 2015년 매출인식은 1대이며 출하로 대체하지 않았다. EQASE2012 EQASE2013 EQASE2016 EQAS_AR2019 EQAS_AR2022 EQAS_AR2025 EQAS_AR2025_FP EQAS_IR2022 EQAS_IR2023

연간 대수: 서로 겹치는 부모·부분 집계

‘—’는 이 표에서 해당 분해를 제시하지 않음을 뜻하며 0대가 아닙니다. 전 기간 기술별 DUV, 신품·중고 수량은 데이터 파일에 포함했습니다. 2015년 EUV 매출 인식 1대는 원문 2016년20-F Note20(F-42)에서 재확인한 값이며, 당시 물리 출하 대수와 다릅니다.

연도EUV 전체Low-NAHigh-NA노광장비 전체근거
20100——197EQASE2010 EQASE2012
20113——222EQASE2013 EQASE2012
20121——170EQASE2013 EQASE2012
20131——157EQASE2013
20145——136EQASE2016
20151——169EQASE2016
20164——157EQASE2016
201711——197EQAS_AR2019 EQAS_PR2018
201818——224EQAS_AR2019 EQAS_PR2018 EQAS_IR2022
201926——229EQAS_AR2019 EQAS_PR2019 EQAS_IR2022
202031——258EQAS_AR2022 EQAS_PR2021 EQAS_IR2022
202142——309EQAS_AR2022 EQAS_PR2021 EQAS_IR2022
202240——345EQAS_AR2022 EQAS_PR2023 EQAS_IR2022
202353530449EQAS_AR2025 EQAS_PR2023 EQAS_IR2023
202444422418EQAS_AR2025 EQAS_AR2025_FP EQAS_PR2025
202548444327EQAS_AR2025 EQAS_AR2025_FP EQAS_PR2025 EQAS_CALL_Q32026

물리 출하와 매출 인식이 갈린 실제 사례

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
ASML
2022
EUV
매출 인식 장비 수
40
systems
ASML consolidated worldwide; new and used systems combined; technology subset of lithography
보고 실적·확인 사건
Financial recognition basis, not a separate physical shipment count. Before commercial High-NA recognition; no EXE units added to this total.
EQAS_AR2022
SCE000882
ASML
2023
EUV
매출 인식 장비 수
53
systems
ASML consolidated worldwide; new and used systems combined; technology subset of lithography
보고 실적·확인 사건
EUV total includes both Low-NA NXE and High-NA EXE. Do not add the subtype rows again. 2023 total is the explicit arithmetic sum EXE 0 + NXE 53.
EQAS_AR2025
SCE000897
ASML
2022
EUV
장비 물리 출하 수
54
systems
ASML worldwide; annual EUV systems shipped as stated by ASML
보고 실적·확인 사건
Explicit physical shipment count; separate from recognized system units.
EQAS_IR2022
SCE000943
ASML
2023
EUV
장비 물리 출하 수
42
systems
ASML worldwide; annual EUV systems shipped as stated by ASML
보고 실적·확인 사건
Explicit physical shipment count; separate from recognized system units. 2023 first High-NA modules are discussed separately and do not establish a complete High-NA shipment count.
EQAS_IR2023
SCE000944

2026년 부분 기간

2026년 Q1~Q3와 상반기 자료는 각각의 회계기간으로 저장했습니다. 연간 확정치로 연율화하지 않았으며, 반기와 분기를 더하지 않았습니다.

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
ASML
2026-Q1
All lithography
신품 장비 판매 수
67
systems
ASML worldwide; new lithography systems only; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_Q12026
SCE000945
ASML
2026-Q1
All lithography
중고 장비 판매 수
12
systems
ASML worldwide; used lithography systems only; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_Q12026
SCE000946
ASML
2026-Q2
All lithography
신품 장비 판매 수
86
systems
ASML worldwide; new lithography systems only; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_Q22026
SCE000947
ASML
2026-Q2
All lithography
중고 장비 판매 수
5
systems
ASML worldwide; used lithography systems only; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_Q22026
SCE000948
ASML
2026-Q3
All lithography
신품 장비 판매 수
113
systems
ASML worldwide; new lithography systems only; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_Q32026
SCE000949
ASML
2026-Q3
All lithography
중고 장비 판매 수
8
systems
ASML worldwide; used lithography systems only; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_Q32026
SCE000950
ASML
2026-Q1
All lithography
매출 인식 장비 수
79
systems
ASML worldwide; new and used lithography combined; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_IR_Q32026
SCE000953
ASML
2026-Q2
All lithography
매출 인식 장비 수
91
systems
ASML worldwide; new and used lithography combined; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_IR_Q32026
SCE000954
ASML
2026-Q3
All lithography
매출 인식 장비 수
121
systems
ASML worldwide; new and used lithography combined; excludes metrology and inspection
보고 실적·확인 사건
EQAS_IR_Q32026
SCE000955
ASML
2026-Q1
EUV High-NA / EXE
매출 인식 장비 수
2
systems
ASML worldwide; High-NA EUV subset
보고 실적·확인 사건
EQAS_CALL_Q12026
SCE000956
ASML
2026-Q2
EUV High-NA / EXE
매출 인식 장비 수
1
systems
ASML worldwide; High-NA EUV subset
보고 실적·확인 사건
EQAS_CALL_Q22026
SCE000957
ASML
2026-Q3
EUV High-NA / EXE
매출 인식 장비 수
1
systems
ASML worldwide; High-NA EUV subset
보고 실적·확인 사건
EQAS_CALL_Q32026
SCE000958
ASML
2026-H1
EUV High-NA / EXE
매출 인식 장비 수
3
systems
ASML worldwide; EUV High-NA / EXE equipment subset
보고 실적·확인 사건
EQAS_H12026
SCE000973
ASML
2026-H1
All lithography
매출 인식 장비 수
170
systems
ASML worldwide; lithography systems only; new and used combined
보고 실적·확인 사건
EQAS_H12026
SCE000981
ASML
2026-H1
All lithography
신품 장비 판매 수
153
systems
ASML worldwide; lithography systems only; new only
보고 실적·확인 사건
EQAS_H12026
SCE000982
ASML
2026-H1
All lithography
중고 장비 판매 수
17
systems
ASML worldwide; lithography systems only; used only
보고 실적·확인 사건
EQAS_H12026
SCE000983

2. 회사별 EUV·High-NA: 보유 대수와 도입 사건

EUV 고객별 이력은 장비 대수 연간 패널보다 사건·상태 이력으로 구축하는 편이 신뢰도가 높다. 이 파일은 공식 발표를 우선하며, Intel·TSMC의 실명 회사 발언을 인용한 2차 보도는 secondary_estimate로 명확히 분리했다. 해당 표시는 산술 추정과 동일하다는 뜻이 아니라, 1차 장비 대장·발표 원문을 확보하지 못한 보도 경로를 뜻한다.

장비 관련 metric을 주문(purchase_order), 모듈 출하, 완성 시스템 출하, 현장 인도, 조립, 설치, 인수시험 통과, 가동(in use/operating)으로 나눴다. first_*_event_quantity=1은 그 사건에서 확인된 장비 한 대이며 해당 회사의 총 보유 대수가 아니다. ASML의 누적 출하·세계 사용 중 장비와 고객별 사건을 합산하면 중복된다. 2021년 ASML의 127대는 최신 세대 EUV 사용 중 장비라는 원문 범위에 한정한다. ASML 연간 매출 인식 판매량은 이 파일에서 반복하지 않는다.

High NA는 같은 EUV라도 기존 NXE Low NA 0.33과 EXE High NA 0.55를 별도 기술로 취급한다. Intel의 2023년 12월 첫 모듈 출하, 2024년 4월 D1X 설치·보정, 2025년 2대 시험 가동 보도, 2026년 EXE:5200B 인수시험 완료 확인 및 일부 Intel18A/Panther Lake 양산은 서로 다른 단계다. SK hynix의 2025년 EXE:5200B M16 조립은 양산용 장비 설치 사건이며 High NA DRAM 양산 개시로 읽지 않는다. Samsung의 2024년 NRD-K High NA는 미래 계획, 2026년 발표한 DRAM High NA HVM by2028은 여전히 계획이다. TSMC는 2025년 High NA용 리소그래피 기술 개발을 보고했고 2026년에는 2030년 advanced-node HVM 도입 의향을 밝혔다. 이 문장들로 현재 연구 장비 0대 또는 특정 대수를 정하지 않는다.

TSMC의 세계 설치 기반 2019년42%, 2020년8월약50%, 2023년56%와 2019년 대비 장비10배/wafer moves30배는 절대 대수가 아니다. ASML의 전세계 누적 판매/출하와 발표 시점·모집단이 달라 곱셈 환산하지 않았다. EUV wafer moves 및 처리 웨이퍼는 같은 웨이퍼의 층별·시험 반복을 포함할 수 있다. Intel의 누적100만장 초과도 인증·R&D·일부양산 전체 처리량이므로 회사의 양품 wafer production/shipments와 결합하면 안 된다. 삼성 D1x 100만은 모듈 개수이며 2021년14nm의 5는 공정층 수다.

과거 계획과 실제 결과를 같은 행으로 덮어쓰지 않았다. Micron이 2021년 제시한 2024년 EUV HVM 목표, 2023년의 2025년 이후 1γ 계획, 2025년 샘플/production-node shipments 및 FY2025Q4 일본 첫 설치는 별개 이력이다. Micron의 FY2025 종료는 2025-08-28이며 발표일과 설치 기간을 구분했다. 레거시 Micron IR PDF 일부는 현재 사이트 개편으로 홈으로 리디렉션되거나 접근이 실패하지만 검색 색인에 1차 문서 문구가 남아 있다. 해당 출처는 source_type에 indexed를 표시하고 일본 설치는 SEC Proxy로 교차 확인했다.

공개 공백: Intel 전체 EUV fleet, Samsung 전체·공장별 fleet, SK hynix 전체 fleet, Micron 전체 fleet 및 고객별 연간 설치·폐기·이전 대수는 확인된 공식 연간 시계열이 없다. TSMC도 절대 장비 대수의 공식 장기 시계열을 확보하지 못했다. 이 공백은 0이 아니며 원가·투자액·클린룸 면적·시장 점유율로 장비 대수를 역산하지 않았다. 확인 안 된 삼성·TSMC High NA 도입 보도와 거래 관계 추측은 실제 대수 행에서 제외했다.

출처 충돌: ASML의 2022년 상세 회고와 사진 설명은 100번째 EUV 출하를 2020년12월로 쓰지만 현재 제품 페이지는 2020년초라고 한다. 이 파일은 날짜가 명시된 상세 회고를 기준으로 두고 상충 내용을 노트에 보존한다. TSMC 2024년 AnandTech 전재 본문은 10배/56%의 연도를 일부2024로 서술하지만 같은 표와 TSMC의 직접 답변 인용은2023이다. 2023을 채택했다. SK hynix High NA 페이지 상단은2025-09-02, 본문 dateline은2025-09-03으로 하루 차이가 있어 본문 일자를 사용했다.

High-NA·고객 장비의 주요 원문 기록

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
ASML
2021-12-31
Latest-generation EUV machines
고객 현장 사용 중 장비 수
127
systems
Worldwide customer sites; latest-generation systems in use
보고 실적·확인 사건
'latest-generation'이라는 원문 범위를 유지. 모든 시제품을 포함한 총 누적 제조·판매·설치 대수와 같다고 볼 수 없다.
EUV001
SCE001396
ASML
2025-Q1
High NA EUV; EXE platform
High-NA 누적 출하 수
5
systems
Global cumulative High NA shipments by Q1 2025
보고 실적·확인 사건
5대는 해당 분기 출하량이 아니라 다섯 번째 장비까지의 누적 출하 이정표. 고객별 배분, 인수·가동 완료는 불명.
EUV011
SCE001397
ASML
2025-04-16
High NA EUV; EXE platform
High-NA 장비 도입 고객 수
3
customers
Global customers at whose sites these systems were located
보고 실적·확인 사건
고객 이름을 이 수치에서 추론하지 않는다. 3은 장비 대수가 아니다.
EUV011
SCE001398
ASML
2025-04
TWINSCAN EXE:5200B
첫 모델 출하 사건 수량
1
systems
First EXE:5200B shipment event; destination not disclosed in cited passage
보고 실적·확인 사건
4월 초 첫 EXE:5200B 출하. 고객 배분이나 설치·수락을 이 기록에서 확정하지 않는다.
EUV012
SCE001399
Intel
2018
TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV
장비 구매 주문 사건
Intel became the first purchaser of EXE:5000
milestone
Intel; order only, destination not given
보고 실적·확인 사건
2022년 공동 발표의 과거 회고. 'purchase'는 주문·구매 이력이며 인도 또는 설치 완료가 아니다.
EUV004
SCE001400
Intel
2022-01-19
TWINSCAN EXE:5200 High NA EUV
장비 구매 주문 사건
First purchase order for EXE:5200 issued
milestone
Intel; first purchase order for the model
보고 실적·확인 사건
정확한 계약 총 대수는 공개하지 않았다. 모델명을 후속 EXE:5200B로 임의 치환하지 않는다.
EUV004
SCE001401
Intel
2025
High NA EUV
High-NA 생산 도입 목표
Planned High NA production manufacturing beginning in 2025
milestone
Intel planned production manufacturing as stated Jan.2022
발표 계획 · 전망
당시 계획을 보존한다. 2025년 실제 HVM 달성 기록이 아니며 EUV009의 2026년 실제 적용과 구분.
EUV004
SCE001402
Intel
2023-09-29
Intel 4; Low NA EUV
EUV 대량 양산 시작
Intel 4 high-volume manufacturing start announced at Fab 34
milestone
Ireland Fab 34 Leixlip
보고 실적·확인 사건
Intel 전체 최초 EUV 연구 도입 시점과 구분하며 Fab 34에 한정한다.
EUV007
SCE001405
Intel
2023-12
TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV
최초 장비 모듈 출하 사건
First modules of the first High NA system shipped to Intel
milestone
ASML shipment to Intel; first modules of first system
보고 실적·확인 사건
완성 장비의 현장 설치·보정 완료로 처리하지 않는다.
EUV003
SCE001406
Intel
2024-04
TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV
사업장 최초 High-NA 설치 사건 수량
1
systems
Oregon D1X test manufacturing facility, Hillsboro
보고 실적·확인 사건
4월 설치 완료 및 보정 시작. 첫 장비 설치 사건으로서 범위를 한정하며 Intel 총 EUV fleet 수로 사용하지 않는다.
EUV005
SCE001407
Intel
2025-02-24
High NA EUV; EXE:5000 model identified by corroborating conference coverage
가동 중 High-NA 장비 수
2
systems
Intel development / testing operations; not all EUV equipment
2차 자료 추정
실명 엔지니어의 발표를 인용한 Reuters 보도이며 회사 공식 장비 대장 원문은 미확보. 'in production'은 기사 안의 18A 시험 맥락에 따라 가동으로 기록하고 상업 HVM으로 분류하지 않았다.
EUV008
SCE001408
Intel
2025-02-24
High NA EUV testing
분기 High-NA 테스트 웨이퍼 처리량
30,000
wafers/quarter
Intel development testing; one quarter mentioned at SPIE
2차 자료 추정
어느 역년·회계 분기인지 기사에서 특정하지 않는다. 고객 제품용 합격 웨이퍼 생산·출하량 또는 연간 생산량이 아니다.
EUV008
SCE001409
Intel
2026-07-15
TWINSCAN EXE:5200B High NA EUV
모델 설치·인수시험 통과
Intel was first to install and pass acceptance testing of EXE:5200B
milestone
Intel Foundry; location of this model not explicitly given in cited paragraph
보고 실적·확인 사건
발표일까지 달성 사실을 확인한 것이며 설치일 또는 시험 통과일이 2026-07-15라는 뜻은 아니다. EXE:5000과 다른 모델.
EUV009
SCE001410
Intel
2026-07-15
High NA EUV / Intel 18A / Panther Lake
High-NA 대량 양산 시작
High NA used in HVM, with some Panther Lake products shipping to customers
milestone
Oregon; selected Intel 18A layers for a subset of Core Ultra Series 3 processors
보고 실적·확인 사건
일부 제품·특정 층에 한정. Intel18A 전체 층 또는 전체 출하 제품이 High NA라는 뜻이 아니다.
EUV009
SCE001411
Intel
2026-09-07
High NA EUV
누적 High-NA 웨이퍼 처리량
>1,000,000
wafers_processed
Early certification/testing + R&D + selected-layer volume production for subset of Panther Lake
보고 실적·확인 사건
원문 >1m. 처리 건수의 고유 웨이퍼 중복 제거 여부와 층별 노광 횟수는 공개되지 않았다. 양품 웨이퍼 생산량·wafer starts로 사용하지 않는다.
EUV010
SCE001412
TSMC
2019
Low NA EUV; model mix not disclosed
세계 EUV 설치 대수 내 비중
42
percent
TSMC share of worldwide EUV installed base
2차 자료 추정
회사 발표 표를 전재한 2차 자료. 연중 어느 날짜인지 불명. 절대 대수로 환산하지 않는다.
EUV017
SCE001416
TSMC
2020-08
Low NA EUV; model mix not disclosed
세계 EUV 설치 대수 내 비중
≈50
percent
TSMC share of worldwide EUV installed base at 2020 Technology Symposium
2차 자료 추정
원문 약 50%. 발표 시점의 비율이며 2020년 말 비율이 아니다. 기자의 30–35대 산술 추정은 채택하지 않았다.
EUV015
SCE001417
TSMC
2023
Low NA EUV; model mix not disclosed
세계 EUV 설치 대수 내 비중
56
percent
TSMC share of worldwide EUV installed base
2차 자료 추정
TSMC가 2024년 기자에게 직접 설명한 2023년 수치. EUV017 본문 일부의 2024년 표현보다 회사 인용문의 2023년을 채택. 장비 절대 수로 변환하지 않는다.
EUV016
SCE001419
TSMC
future_unspecified_as_of_2025
High NA EUV
High-NA 통합 계획
Future integration of High NA EUV envisaged
milestone
TSMC lithography R&D / future advanced technologies
발표 계획 · 전망
2024년 연차보고서에 향후 계획으로 기재. 2024년 설치·양산 또는 장비 0대를 뜻하지 않는다.
EUV018
SCE001422
TSMC
2025
High NA EUV
High-NA 노광 R&D 시작
Development of lithography technology for High NA scanners began
milestone
TSMC lithography technology R&D
보고 실적·확인 사건
High NA용 기술 개발의 실제 시작이며 고객 팹의 특정 장비 설치나 상업 HVM을 확인하는 문장은 아니다.
EUV019
SCE001423
TSMC
2030
High NA EUV
High-NA 대량 양산 목표
TSMC intends to start using High NA in HVM for advanced nodes in 2030
milestone
TSMC future advanced nodes
발표 계획 · 전망
2026-09-08 발표 당시 계획. 2031년 12-inch photomask pilot 및 2033년 대형 마스크 시스템 준비와 별도 일정. photomask 치수는 웨이퍼 직경이 아니다.
EUV020
SCE001424
Samsung
future_unspecified_as_of_2024-11-20
High NA EUV; model unspecified
연구용 High-NA 설치 계획
NRD-K to be equipped with High NA EUV
milestone
NRD-K R&D complex, Giheung
발표 계획 · 전망
2024년 tool-in 행사는 시설 전체 행사. High NA는 미래형 will be set up. 연구 라인 가동 2025년 중반 계획을 High NA 실제 인도일로 전환하지 않았다.
EUV025
SCE001433
Samsung
2028
High NA EUV; future DRAM
High-NA DRAM 대량 양산 목표
Planned High NA adoption into DRAM HVM by 2028
milestone
Samsung future DRAM HVM; fab / node not specified
발표 계획 · 전망
원문 by2028의 기한 계획. 장비 설치 완료나 실제 양산 개시는 아니다.
EUV026
SCE001434
SK hynix
2025-09-03
TWINSCAN EXE:5200B High NA EUV
사업장 최초 모델 조립 사건 수량
1
systems
M16, Icheon; assembly ceremony event
보고 실적·확인 사건
본문 dateline Sep3 사용; 페이지 metadata는 Sep2로 하루 차이. 'for mass production'인 장비의 조립 완료이며 High NA DRAM 양산 개시 또는 전체 EUV fleet=1대가 아니다.
EUV029
SCE001437
Micron
2024
EUV DRAM; node not specified in cited 2021 remarks
EUV 대량 양산 목표
Planned implementation of EUV in HVM in the 2024 timeframe
milestone
Micron manufacturing roadmap as of September 2021
발표 계획 · 전망
2021년 당시 계획의 기록. 2023년 발표는 1γ Taiwan/Japan 2025년 이후 램프업으로 달라진다.
EUV031
SCE001440
공개 자료에서 TSMC·Samsung·SK hynix·Micron의 전 세계 총 EUV 보유 대수에 대한 비교 가능한 연속 확정계열을 확보하지 못했습니다. 인도·조립·설치·가동 사례를 전체 보유량으로 대체하지 않았습니다. Intel 일부 보도 추정은 공식 전체 fleet 공시와 구별합니다.

3. DRAM·HBM: 출하 비트·가격·제품 사양·생산 단계

삼성전자·SK hynix·Micron의 DRAM/HBM을 출하 bit 성장, ASP, 제품매출 mix, 제품세대·적층·대역폭, 기술단계, 월간 wafer 추정으로 나눠 기록했다. Micron은 FY2015–FY2026 연간 DRAM 자료를 중심으로 수집했으나 FY2019 bit growth/FY2022 ASP의 미공개 수치를 매출 변화에서 역산하지 않았다. high/mid/low 등 언어적 구간은 value=null 및 value_text로 보존한다. Micron FY2026은 2026-09-03 종료53주 회계연도로 CY2026과 다르다. 삼성/SK는12월결산 기준이다. HBM의 GB/stack·DRAM die 수·핀속도·TB/s는 제품 spec이며 생산 wafer 수와 무관하다. 개발, 샘플, 고객인증, 양산준비, 양산, 상업출하를 구분했으며 발표시점 계획은 이후 달성이 확인되어도 당시 상태를 유지했다. HBM 매출 비중·bit 생산 비중·wafer 투입 비중은 서로 대체할 수 없다. 공개 월간 wafer 수는 제한적이다. TrendForce의 TSV후공정 포함HBM계획능력, 취재보도의1c노드설비준비목표, 전체DRAM월생산추정을 각각secondary_estimate로 표시했고, 이를 공식 실제waferstarts 장기계열처럼 연결하거나 합산하면 안 된다. HBM3E의 약3:1 wafer trade ratio는 동일bit·동일공정 조건의 회사 설명이며 가격/원가비율 또는 모든세대에 적용할 상수로 사용할 수 없다. 공식 static파일2건은 IR개편후redirect되므로 검색색인에서 확인한자료라는 접근한계를 출처에 기록했다.

Micron DRAM·NAND 비트 출하 및 평균판매가격 증감
FY2015~2026 전년 대비 비트 출하 증가율과 비트당 평균판매가격 변화를 별도 패널로 표시했다. 단일 숫자로 공시된 대략값은 ~와 빈 마커로 구별하고 high/mid/low 구간은 결측으로 유지했다. 초기 Trade NAND와 이후 NAND 범위 변화, FY2026의 53주 회계연도를 주석으로 명시했다. MEM001 MEM002 MEM003 MEM004 MEM005 MEM006 MEM007 MEM008 MEM009 NAND01 NAND02 NAND03 NAND04 NAND05 NAND06 NAND07 NAND08

Micron 연간 DRAM: 숫자와 언어적 구간을 함께 보존

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Micron
FY2015
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
4
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM001
SCE001135
Micron
FY2015
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
-11
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM001
SCE001136
Micron
FY2015
DRAM
비트당 원가 증감률 YoY
-12
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM001
SCE001137
Micron
FY2016
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
7
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM001
SCE001138
Micron
FY2016
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
-35
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM001
SCE001139
Micron
FY2016
DRAM
비트당 원가 증감률 YoY
-17
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM001
SCE001140
Micron
FY2017
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
52
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM002
SCE001141
Micron
FY2017
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
19
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM002
SCE001142
Micron
FY2017
DRAM
비트당 원가 증감률 YoY
-21
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM002
SCE001143
Micron
FY2018
DRAM
판매 물량 증감률 YoY
≈20
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM003
SCE001144
Micron
FY2018
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
≈35
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM003
SCE001145
Micron
FY2019
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
≈-30
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM004
SCE001146
Micron
FY2020
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
increase in low-30% range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM004
SCE001147
Micron
FY2020
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
decline in mid-30% range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM004
SCE001148
Micron
FY2021
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
increase in high-20% range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM005
SCE001149
Micron
FY2021
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
high-single-digit increase
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM005
SCE001150
Micron
FY2022
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
increase slightly over 10%
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM006
SCE001151
Micron
FY2023
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
decline in high-single-digit percent range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM007
SCE001152
Micron
FY2023
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
decline in high-40s percent range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM007
SCE001153
Micron
FY2024
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
increase in mid-40% range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM008
SCE001154
Micron
FY2024
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
increase in low-teen percentage range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM008
SCE001155
Micron
FY2025
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
mid-teen percentage increase
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM008
SCE001156
Micron
FY2025
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
increase in low-40% range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM008
SCE001157
Micron
FY2026
DRAM
비트 출하 증감률 YoY
increase in mid-20% range
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM009
SCE001158
Micron
FY2026
DRAM
비트당 ASP 증감률 YoY
≈180
percent_yoy
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM009
SCE001159
Micron
FY2025
1-beta DRAM
공정별 비트 생산 비중
majority of DRAM bit production on 1-beta
qualitative_share
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
MEM008
SCE001160

HBM 세대별 단계 이력

발표문이 실제로 주장하는 단계를 그대로 저장합니다. 제품 준비 완료·고객 평가·샘플 공급과 대량 양산은 서로 다른 사건입니다.

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Samsung
2016-01-19
HBM2 4GB
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
buffer die 1개는 DRAM core die 수에 포함하지 않음.
MEM012
SCE001169
Samsung
2018-01-11
HBM2 Aquabolt
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
본문307GB/s; 각주 계산값307.2GB/s. 2nd-generation HBM2는 Samsung내제품세대이며 JEDEC HBM2E와 구분.
MEM013
SCE001173
Samsung
2020-02-04
HBM2E Flashbolt
제품 개발·샘플·양산 단계
market_launch
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
1y DRAM. 최대시험치4.2Gbps/538GB/s와 안정동작3.2Gbps/410GB/s를 혼합하지 않음.
MEM014
SCE001178
Samsung
2020-H1
HBM2E Flashbolt
제품 개발·샘플·양산 단계
volume_production_planned
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
2020-02-04 발표 당시 향후계획. 이날 양산완료를 의미하지 않음.
MEM014
SCE001183
Samsung
2024-02-27
HBM3E 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
developed_and_sampling_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
최대 대역폭 spec이며 실제 wafer output 아님. 양산단계와 구분.
MEM015
SCE001184
Samsung
2024-H1
HBM3E 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_planned
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
발표시점 계획.
MEM015
SCE001188
Samsung
2024-04
HBM3E 8H
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
this month는 공시월2024년4월. 실적기간Q1과 이정표월4월을 구분.
MEM016
SCE001189
Samsung
2024-Q2
HBM3E 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_planned
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
2024-04-30 당시Q2내계획; 개발발표만으로 실제양산이행을 추정하지 않음.
MEM016
SCE001190
Samsung
2026-02-12
HBM4
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_and_commercial_shipments_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
1c DRAM core +4nm logic base die. 핀속도 최대13Gbps와 안정11.7Gbps 구분.
MEM017
SCE001191
Samsung
future_after_2026-02-12
HBM4 16H
제품 개발·샘플·양산 단계
lineup_expansion_planned
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
미래 고객일정에 따른16H계획;양산출하실적으로 취급금지.
MEM017
SCE001197
Samsung
2026-05-29
HBM4E 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
sample_shipments_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
1cDRAM/4nmlogic. 최대확장16Gbps와 안정14Gbps 구분. 샘플단계이지 양산완료아님.
MEM018
SCE001200
Samsung
future_after_2026-05-29
HBM4E 16H
제품 개발·샘플·양산 단계
lineup_expansion_planned
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
16H64GB는 향후계획.
MEM018
SCE001205
SK hynix
2020-07-02
HBM2E
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM019
SCE001207
SK hynix
2021-10
HBM3
제품 개발·샘플·양산 단계
development_completed
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
회고자료에 명시된월;양산개시와 구분.
MEM020
SCE001212
SK hynix
2022-06
HBM3
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM020
SCE001213
SK hynix
2024-03-19
HBM3E 8H
제품 개발·샘플·양산 단계
volume_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
8H식별은2024-09-26동사자료의3월8H공급회고와교차확인. 양산개시와고객납품일은별도.
MEM021
SCE001214
SK hynix
2024-09-26
HBM3E 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM022
SCE001216
SK hynix
2024-03
HBM3E 8H
제품 개발·샘플·양산 단계
customer_deliveries_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
후속회사자료에서3월고객납품확인.
MEM022
SCE001220
SK hynix
2024-Q4
HBM3E 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
customer_supply_planned
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
2024-09-26당시연내공급계획;출하완료아님.
MEM022
SCE001223
SK hynix
2025-03-19
HBM4 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
sample_shipments_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM023
SCE001224
SK hynix
2025-H2
HBM4 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
mass_production_preparations_target
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
본문은양산준비완료목표. 양산실제출하와구분.
MEM023
SCE001228
SK hynix
2025-09-12
HBM4
제품 개발·샘플·양산 단계
development_completed_mass_production_system_ready
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
readied/finished preparation은실제양산시작또는상업출하와다른단계.1bnmDRAM;AdvancedMR-MUF.
MEM024
SCE001229
SK hynix
2026-01-28
HBM3E + HBM4
제품 개발·샘플·양산 단계
stable_simultaneous_customer_supply
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
2026-01-28회사자료에서이미stably supplying을확인. 정확한첫출하월은이문장에없음.
MEM025
SCE001233
SK hynix
2025
1c DRAM
제품 개발·샘플·양산 단계
full-scale mass production entered
stage
company DRAM products
보고 실적·확인 사건
공식CY2025회고.6세대10nm급.
MEM025
SCE001234
Micron
FY2022
HBM2E
제품 개발·샘플·양산 단계
high_volume_manufacturing_and_sales_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
회계연도범위내개시;정확한월비공개.
MEM006
SCE001242
Micron
2023-07-26
HBM3 Gen2 (subsequently HBM3E)
제품 개발·샘플·양산 단계
sampling_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
발표당시이름HBM3Gen2.1-beta DRAM.샘플을양산으로취급금지.
MEM028
SCE001243
Micron
2024-02-26
HBM3E 8H
제품 개발·샘플·양산 단계
volume_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
1-betaDRAM.고객NVIDIAH200의Q22024출하시점과Micron양산개시일을혼동하지않음.
MEM029
SCE001248
Micron
2025-06-10
HBM4 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
sample_shipments_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
1-betaDRAM.2025샘플spec;이후고속양산제품spec로소급대체하지않음.
MEM030
SCE001254
Micron
2026
HBM4
제품 개발·샘플·양산 단계
volume_ramp_planned
stage
single HBM stack/product
발표 계획 · 전망
2025-06-10당시CY2026ramp계획.
MEM030
SCE001259
Micron
FY2026
HBM4 12H
제품 개발·샘플·양산 단계
volume_production_started
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
2026-09-03종료회계연도내양산개시.1-beta;logicbasedie와DRAMcore는자체설계/제조.
MEM009
SCE001260
Micron
FY2026
HBM4 16H
제품 개발·샘플·양산 단계
samples_delivered_to_multiple_key_customers
stage
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
2026-09-03종료회계연도내샘플.16H양산시작을의미하지않음.
MEM009
SCE001263
Micron
2027
HBM4E
제품 개발·샘플·양산 단계
volume_ramp_expected
stage
single HBM stack/product
회사 전망 · 전망
FY2026보고서의CY2027전망;1-gammaDRAM.
MEM009
SCE001266

HBM 적층·용량·대역폭의 제품 사양 사례

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Samsung
2024-02-27
HBM3E 12H
HBM 스택당 용량
36
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM015
SCE001185
Samsung
2024-02-27
HBM3E 12H
HBM DRAM 다이 적층 수
12
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM015
SCE001186
Samsung
2024-02-27
HBM3E 12H
최대 스택 대역폭
1,280
GB/s_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM015
SCE001187
Samsung
2026-02-12
HBM4
핀당 데이터 속도
11.7
Gb/s_per_pin
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM017
SCE001192
Samsung
2026-02-12
HBM4
최대 스택 대역폭
3.3
TB/s_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM017
SCE001193
Samsung
2026-02-12
HBM4
HBM DRAM 다이 적층 수
12
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM017
SCE001194
Samsung
2026-02-12
HBM4 12H
HBM 스택당 용량
24–36
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM017
SCE001196
Samsung
2026-05-29
HBM4E 12H
HBM 스택당 용량
48
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM018
SCE001201
Samsung
2026-05-29
HBM4E 12H
HBM DRAM 다이 적층 수
12
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM018
SCE001202
Samsung
2026-05-29
HBM4E 12H
핀당 데이터 속도
14
Gb/s_per_pin
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM018
SCE001203
Samsung
2026-05-29
HBM4E 12H
최대 스택 대역폭
3.6
TB/s_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM018
SCE001204
SK hynix
2024-03-19
HBM3E 8H
최대 스택 대역폭
1.18
TB/s_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM021
SCE001215
SK hynix
2024-09-26
HBM3E 12H
HBM 스택당 용량
36
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM022
SCE001217
SK hynix
2024-09-26
HBM3E 12H
HBM DRAM 다이 적층 수
12
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM022
SCE001218
SK hynix
2024-09-26
HBM3E 12H
핀당 데이터 속도
9.6
Gb/s_per_pin
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM022
SCE001219
SK hynix
2024-03
HBM3E 8H
HBM 스택당 용량
24
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM022
SCE001221
SK hynix
2024-03
HBM3E 8H
HBM DRAM 다이 적층 수
8
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM022
SCE001222
SK hynix
2025-03-19
HBM4 12H
HBM 스택당 용량
36
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM023
SCE001225
SK hynix
2025-03-19
HBM4 12H
HBM DRAM 다이 적층 수
12
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM023
SCE001226
SK hynix
2025-03-19
HBM4 12H
HBM 스택당 대역폭
>2
TB/s_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM023
SCE001227
SK hynix
2025-09-12
HBM4
핀당 데이터 속도
>10
Gb/s_per_pin
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM024
SCE001231
Micron
2024-02-26
HBM3E 8H
HBM 스택당 용량
24
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM029
SCE001249
Micron
2024-02-26
HBM3E 8H
HBM DRAM 다이 적층 수
8
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM029
SCE001250
Micron
2024-02-26
HBM3E 8H
HBM 스택당 대역폭
>1.2
TB/s_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM029
SCE001251
Micron
2024-02-26
HBM3E 8H
핀당 데이터 속도
>9.2
Gb/s_per_pin
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM029
SCE001252
Micron
2025-06-10
HBM4 12H
HBM 스택당 용량
36
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM030
SCE001255
Micron
2025-06-10
HBM4 12H
HBM DRAM 다이 적층 수
12
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM030
SCE001256
Micron
2025-06-10
HBM4 12H
HBM 스택당 대역폭
>2
TB/s_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM030
SCE001258
Micron
FY2026
HBM4 12H
HBM 스택당 용량
36
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM009
SCE001261
Micron
FY2026
HBM4 12H
HBM DRAM 다이 적층 수
12
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM009
SCE001262
Micron
FY2026
HBM4 16H
HBM 스택당 용량
48
GB_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM009
SCE001264
Micron
FY2026
HBM4 16H
HBM DRAM 다이 적층 수
16
DRAM_dies_per_stack
single HBM stack/product
보고 실적·확인 사건
MEM009
SCE001265

월간 DRAM·HBM 능력 추정과 전환 비용

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Micron
2024-03-20
HBM3E
동일 비트 기준 DDR5 대비 웨이퍼 자원 배율
≈3
times_DDR5_for_same_bits_same_node
industrywide comparison stated by company
보고 실적·확인 사건
회사경영진의산업비교설명.월간절대용량이아니며모든노드/세대/수율에고정적용할환산계수아님.
MEM033
SCE001269
Micron
future_HBM4E_generation
HBM4E
동일 비트 기준 DDR5 대비 웨이퍼 자원 배율
>4
times_DDR5_for_same_bits
industry trade ratio forecast stated by company
회사 전망 · 전망
2025-03-20당시기술전망.측정된실제wafer-input이나생산원가비율아님.
MEM034
SCE001270
Samsung
2024-year_end
HBM TSV-capable production
HBM TSV 월간 생산능력 계획
≈130,000
wafers/month
company HBM capacity plan including TSV processes
2차 자료 추정 · 전망
2024-03-18당시연말계획에대한TrendForce추정.전공정DRAMwaferstarts실측아님.원문K/m표기.wafer지름미명시.삼성TSV포함,SK역시HBM계획능력문맥.총DRAM능력과합산금지.
MEM035
SCE001271
SK hynix
2024-year_end
HBM TSV-capable production
HBM TSV 월간 생산능력 계획
≈120,000
wafers/month
company HBM capacity plan including TSV processes
2차 자료 추정 · 전망
2024-03-18당시연말계획에대한TrendForce추정.전공정DRAMwaferstarts실측아님.원문K/m표기.wafer지름미명시.삼성TSV포함,SK역시HBM계획능력문맥.총DRAM능력과합산금지.
MEM035
SCE001272
Samsung
2025-year_end
1c DRAM
월간 웨이퍼 생산능력 계획
≈60,000
wafers/month
Pyeongtaek P4 and Hwaseong Line17 combined 1c DRAM plan
2차 자료 추정 · 전망
취재원의계획추정;실제waferinput실측아님.원문지름미명시.노드부분집합이므로전체DRAM능력과합산금지.
MEM036
SCE001273
Samsung
2025-11-19
all DRAM
월간 웨이퍼 물량 추정
650,000–700,000
wafers/month
company total DRAM monthly output estimate
2차 자료 추정
ETNews취재원을TrendForceNews가재인용.원문output표현을capacity나waferstarts로개명하지않음.지름미명시.시장매출점유율역산치아님.
MEM037
SCE001274
Samsung
2026-Q2
1c DRAM
월간 웨이퍼 생산능력 계획
140,000
wafers/month
company 1c DRAM equipment-setup/mass-production-readiness plan
2차 자료 추정 · 전망
2025-11-19발표당시보도계획.2026Q2=기존60k+추가80k라는보도산술합계;연말200k원문직접공개.설비준비목표이지해당기간실제투입실적아님.노드부분집합;지름미명시.
MEM037
SCE001275
Samsung
2026-year_end
1c DRAM
월간 웨이퍼 생산능력 계획
200,000
wafers/month
company 1c DRAM equipment-setup/mass-production-readiness plan
2차 자료 추정 · 전망
2025-11-19발표당시보도계획.2026Q2=기존60k+추가80k라는보도산술합계;연말200k원문직접공개.설비준비목표이지해당기간실제투입실적아님.노드부분집합;지름미명시.
MEM037
SCE001276
SK hynix
2025
1b DRAM
월간 웨이퍼 생산능력 계획
160,000–170,000
300mm_wafers/month
company 1b DRAM node capacity plan
2차 자료 추정 · 전망
2024-12-20당시TheElec취재원을재인용한상향계획보도.종전계획140k–150k.공식실제waferstarts아님.300mm원문명시.전체DRAM부분집합;HBMTSV후공정능력과합산금지.
MEM038
SCE001277
Samsung
2024-year_end
HBM TSV-capable production
HBM TSV 월간 생산능력 계획
120,000
wafers/month
company TSV process capacity plan
2차 자료 추정 · 전망
2024-09-30시점TrendForce추정계획.2024-03발표의2024말130k추정과다른발표시점수정치;둘을합산하거나평균하지않음.고객인증에따른실현불확실성.지름미명시.전공정DRAMwaferstarts아님.
MEM039
SCE001278
Samsung
2025-year_end
HBM TSV-capable production
HBM TSV 월간 생산능력 계획
170,000
wafers/month
company TSV process capacity plan
2차 자료 추정 · 전망
2024-09-30시점TrendForce추정계획.2024-03발표의2024말130k추정과다른발표시점수정치;둘을합산하거나평균하지않음.고객인증에따른실현불확실성.지름미명시.전공정DRAMwaferstarts아님.
MEM039
SCE001279

4. NAND·저장장치·소재: 비트와 층수의 독립성

NAND에서는 생산웨이퍼 장수, 판매 비트량, 다이 용량, 적층 수, 평균판매가격을 각각 독립 변수로 보관해야 한다. 적층 증가·QLC 전환·수율 개선으로 비트 생산은 웨이퍼 투입이 같거나 줄어도 증가할 수 있다. 이 파일의 growth는 출하 비트 증감으로 생산웨이퍼량을 대체하지 않는다. 주요 기업은 절대 bit/wafer 수량보다 증감률·기술 세대만 공개하므로 이 자료는 완전한 웨이퍼 생산량 패널이 아니다. 비공개 절대량을 점유율이나 매출에서 역산하지 않았다.
Micron은 FY2015부터 FY2026까지 공식 연간 출하·ASP 이력을 연결할 수 있으나 초기 Trade NAND와 이후 NAND의 모집단 차이가 있다. FY2018 원공시 Trade NAND 약40% 증가와 FY2019 비교표현의 NAND 약30% 증가는 별도 범위로 보존했다. high/mid/low 범위는 value=null과 원문 value_text로 저장하여 임의 중앙값·범위를 생성하지 않았다. FY2026은2026-09-03 종료53주 회계연도이며 달력2026 전체가 아니다.
공정세대와 수직 적층은 같은 축이 아니다. Samsung은 공식 발표에서9x/1xx 또는8·9세대만 공개한 경우 층수를 정수로 만들지 않았다. Micron G9도 이 발표에서276층을 확인하지 않아 층수로 채우지 않았다. Kioxia BiCS9는2025년512GbTLC120층과2026년1TbTLC230층 제품이 존재하므로 세대마다 단일층수를 부여하면 오류가 생긴다. Kioxia–Sandisk CBA와 YMTC Xtacking은 메모리웨이퍼와 주변회로웨이퍼 접합을 포함하므로 완성 NAND 다이의 층수와 원재료웨이퍼소비는 일대일이 아니다.
개발·학회발표·샘플·양산·고객출하를 metric으로 구분했다. SK hynix321층은2024-11양산 발표지만 고객공급2025상반기는 당시계획이다. SK128층2019-06발표는양산시작으로기재하지만2019Q4실적발표에서는2020년양산계획이라표현되어제품/양산램프정의의차이를추적해야한다. SK176층자료는웹게시일2020-12-04와본문일12-07이다. YMTC64층자료게시일2019-09-17/행사일09-02,128층게시일2020-04-12/본문일04-13을분리했다. YMTC64층영문각주의256MB는본문256Gb와불일치하므로적극검증대상이다.
Intel–SK hynix는2021-12-29 Dalian자산·SSD사업이전뒤에도Intel이SK소유공장에서NAND를생산했으며2025-03-27제조계약이종료됐다. Solidigm·Intel·SK그룹합계는중복될수있다. WDflash는2025-02-21분할되어Sandisk가02-24독립주식거래를시작했고,HDD수량은NAND가아니다. Kioxia/Sandisk공동공장의물리적웨이퍼를양사각각100%로합산해서는안된다.
SOI·SmartSiC·bulkSiC는기판/소재이고WolfspeedMohawkValley는SiC디바이스fab이다. Soitec최종50만장능력은2023계획이지실제연간출하가아니다. 원재료기판·소자fab가공웨이퍼·메모리bit·적층수는모두별도단위로보관한다. Gb/Tb는bit,GB/TB는byte이며8bits=1byte이다. 공시일이예측시점보다늦은자료를과거학습특징에사용하면미래정보누설이발생하므로publication_date와period를별도로필터링해야한다.

Micron 연간 NAND 출하 비트·ASP

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Micron
FY2015
NAND
비트 출하 증감률 YoY
45
percent
Trade NAND excluding IMFT cost-based Intel sales
보고 실적·확인 사건
NAND01
SCE001280
Micron
FY2015
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
-17
percent
Trade NAND excluding IMFT cost-based Intel sales
보고 실적·확인 사건
NAND01
SCE001281
Micron
FY2016
NAND
비트 출하 증감률 YoY
8
percent
Trade NAND excluding non-trade sales
보고 실적·확인 사건
NAND02
SCE001282
Micron
FY2016
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
-20
percent
Trade NAND excluding non-trade sales
보고 실적·확인 사건
NAND02
SCE001283
Micron
FY2017
NAND
비트 출하 증감률 YoY
65
percent
Trade NAND excluding non-trade sales
보고 실적·확인 사건
NAND02
SCE001284
Micron
FY2017
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
-9
percent
Trade NAND excluding non-trade sales
보고 실적·확인 사건
NAND02
SCE001285
Micron
FY2018
NAND
비트 출하 증감률 YoY
approximately 40% increase
percent
Trade NAND excluding non-trade sales
보고 실적·확인 사건
NAND03
SCE001286
Micron
FY2018
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
-11
percent
Trade NAND excluding non-trade sales
보고 실적·확인 사건
NAND03
SCE001287
Micron
FY2018
NAND
비트 출하 증감률 YoY
approximately 30% increase
percent
NAND as presented in FY2019 10-K
보고 실적·확인 사건
NAND04
SCE001288
Micron
FY2019
NAND
비트 출하 증감률 YoY
significant increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND04
SCE001289
Micron
FY2019
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
mid-40% range decline
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND04
SCE001290
Micron
FY2020
NAND
비트 출하 증감률 YoY
mid-20% range increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND05
SCE001291
Micron
FY2020
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
high-single-digit percent decline
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND05
SCE001292
Micron
FY2021
NAND
비트 출하 증감률 YoY
high-20% range increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND05
SCE001293
Micron
FY2021
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
low-10% range decline
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND05
SCE001294
Micron
FY2022
NAND
비트 출하 증감률 YoY
high-single-digit percent increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND06
SCE001295
Micron
FY2022
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
low-single-digit percent increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND06
SCE001296
Micron
FY2023
NAND
비트 출하 증감률 YoY
high-single-digit percent range increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND06
SCE001297
Micron
FY2023
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
low-50s percent range decline
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND06
SCE001298
Micron
FY2024
NAND
비트 출하 증감률 YoY
low-30% range increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND07
SCE001299
Micron
FY2024
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
low-30% percentage range increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND07
SCE001300
Micron
FY2025
NAND
비트 출하 증감률 YoY
high-teen percentage increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND07
SCE001301
Micron
FY2026
NAND
비트 출하 증감률 YoY
mid-20% range increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND08
SCE001302
Micron
FY2026
NAND
비트당 ASP 증감률 YoY
approximately 200% increase
percent
NAND consolidated
보고 실적·확인 사건
NAND08
SCE001303

NAND 층수·세대·양산 단계

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Samsung
2014-08
V-NAND gen2 128Gb TLC
양산 NAND 적층 수
32
layers
Samsung technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND15
SCE001316
Samsung
2015-08
V-NAND gen3 256Gb TLC
양산 NAND 적층 수
48
layers
Samsung technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND15
SCE001317
Samsung
2016-12
V-NAND gen4 256Gb TLC
양산 NAND 적층 수
64
layers
Samsung technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND15
SCE001318
Samsung
2018
V-NAND gen5 256Gb TLC
양산 NAND 적층 수
9x-layer
layers
Samsung technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND15
SCE001319
Samsung
2019
V-NAND gen6 256Gb TLC
양산 NAND 적층 수
1xx-layer
layers
Samsung technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND15
SCE001320
Samsung
2022-11-07
V-NAND 1Tb TLC
양산 기술 세대
8
generation
Samsung NAND generation
보고 실적·확인 사건
NAND17
SCE001323
Samsung
2024-04-23
V-NAND 1Tb TLC
양산 기술 세대
9
generation
Samsung NAND generation
보고 실적·확인 사건
NAND18
SCE001325
Samsung
2024-09-12
V-NAND 1Tb QLC
양산 기술 세대
9
generation
Samsung NAND generation
보고 실적·확인 사건
NAND19
SCE001327
SK hynix
2017-04-10
256Gb TLC 3D NAND
개발 NAND 적층 수
72
layers
SK hynix development milestone
보고 실적·확인 사건
NAND20
SCE001328
SK hynix
2018-11-04
512Gb TLC 4D NAND / CTF+PUC
발표 NAND 적층 수
96
layers
SK hynix technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND21
SCE001329
SK hynix
2019-06-26
1Tb TLC 4D NAND
양산 NAND 적층 수
128
layers
SK hynix technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND22
SCE001330
SK hynix
2020-12-07
512Gb TLC 4D NAND
개발 NAND 적층 수
176
layers
SK hynix technology development
보고 실적·확인 사건
NAND23
SCE001331
SK hynix
2023-06-08
4D NAND
양산 NAND 적층 수
238
layers
SK hynix technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND24
SCE001332
SK hynix
2024-11-21
1Tb TLC 4D NAND / Three Plugs
양산 NAND 적층 수
321
layers
SK hynix technology launch
보고 실적·확인 사건
NAND25
SCE001333
Micron
2020-11-09
3D NAND / replacement gate
대량 출하 NAND 적층 수
176
layers
Micron technology shipment milestone
보고 실적·확인 사건
NAND34
SCE001352
Micron
2022-07-26
1Tb TLC 3D NAND
대량 출하 NAND 적층 수
232
layers
Micron technology shipment milestone
보고 실적·확인 사건
NAND35
SCE001353
Micron
2022-01-11
QLC 3D NAND
대량 출하 NAND 적층 수
176
layers
Micron QLC technology milestone
보고 실적·확인 사건
NAND36
SCE001355
Micron
2024-04-16
QLC 3D NAND
생산 NAND 적층 수
232
layers
Micron client and data center NAND technology
보고 실적·확인 사건
NAND37
SCE001356
Micron
2024-07-30
G9 TLC NAND / Micron2650SSD
대량 출하 기술 세대
9
generation
Micron NAND generation
보고 실적·확인 사건
NAND38
SCE001357
KIOXIA
2015
BiCS FLASH 3D NAND
상용 NAND 적층 수
48
layers
Toshiba Memory / Kioxia technology commercialization
보고 실적·확인 사건
NAND39
SCE001358
KIOXIA
2018
BiCS FLASH 3D NAND
상용 NAND 적층 수
96
layers
Toshiba Memory / Kioxia technology commercialization
보고 실적·확인 사건
NAND39
SCE001359
KIOXIA
2020
BiCS FLASH 3D NAND
상용 NAND 적층 수
112
layers
Toshiba Memory / Kioxia technology commercialization
보고 실적·확인 사건
NAND39
SCE001360
KIOXIA
2022
BiCS FLASH 3D NAND
상용 NAND 적층 수
162
layers
Toshiba Memory / Kioxia technology commercialization
보고 실적·확인 사건
NAND39
SCE001361
KIOXIA
2021-02-19
BiCS FLASH gen6
개발 NAND 적층 수
162
layers
Kioxia-Western Digital joint technology
보고 실적·확인 사건
NAND40
SCE001362
KIOXIA
2023-03-30
BiCS FLASH gen8 1Tb TLC/QLC / CBA
발표 NAND 적층 수
218
layers
Kioxia-Western Digital joint technology
보고 실적·확인 사건
NAND41
SCE001363
KIOXIA
2025-02-20
BiCS FLASH gen10
공개 예고 NAND 적층 수
332
layers
Kioxia-Sandisk joint development
보고 실적·확인 사건
NAND42
SCE001365
KIOXIA
2025-07-25
BiCS FLASH gen9 512Gb TLC
샘플 출하 NAND 적층 수
120
layers
Kioxia sample product
보고 실적·확인 사건
NAND43
SCE001367
KIOXIA
2026-07-30
BiCS FLASH gen9 1Tb TLC
샘플 출하 NAND 적층 수
230
layers
Kioxia sample product
보고 실적·확인 사건
NAND44
SCE001368
MACRONIX
2021-09
3D NAND
양산 NAND 적층 수
48
layers
Macronix technology milestone
보고 실적·확인 사건
NAND47
SCE001372
MACRONIX
2022-12
3D NAND
양산 NAND 적층 수
96
layers
Macronix technology milestone
보고 실적·확인 사건
NAND47
SCE001373
YMTC
2019-09-02
256Gb TLC / Xtacking
양산 NAND 적층 수
64
layers
YMTC technology milestone
보고 실적·확인 사건
NAND48
SCE001376
YMTC
2020-04-13
X2-6070 QLC NAND
샘플 검증 적층 수
128
layers
YMTC controller/SSD sample validation
보고 실적·확인 사건
NAND49
SCE001377

사업 경계와 SOI·SiC 소재

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
SOLIDIGM
2021-12-29
NAND fab / SSD business
소유권·분사 경계
Dalian fab assets and NAND SSD business transferred
event
Intel-to-SK hynix first closing
보고 실적·확인 사건
이후에도 Intel이 SK소유공장에서 NAND웨이퍼를 생산;2025년까지 제조운영과 자산소유 분리.
NAND45
SCE001369
SOLIDIGM
2025-03-27
NAND wafer manufacturing business
제조·합작사 경계
second closing completed; Intel NAND manufacturing and sale agreement terminated
event
Intel-to-SK hynix second closing
보고 실적·확인 사건
동일Dalian웨이퍼를 Intel생산과 SK공장생산으로 중복 합산 금지.
NAND45
SCE001370
SANDISK
2025-02-21
NAND flash business
소유권·분사 경계
Sandisk separation effective
event
Western Digital flash separation
보고 실적·확인 사건
2025-02-24상장거래시작. WD2025분할전flash와Sandisk분할후flash를 기간맞춰연결;HDD사업은NAND아님.
NAND46
SCE001371
SOITEC
2020
SmartSiC / CEA-Leti / Smart Cut
기술 개발 시작
development began in2020
event
engineered SiC substrate technology
보고 실적·확인 사건
재료기술개발시작;디바이스양산과구분.
NAND51
SCE001381
SOITEC
2023-09-28
SmartSiC
팹 개장
plant inaugurated
event
Bernin new SmartSiC substrate plant
보고 실적·확인 사건
기판제조시설개소이며설비의최종생산량달성확인아님.
NAND51
SCE001382
SOITEC
final_capacity_target_as_announced_2023
SmartSiC
생산능력 계획
500,000
wafers/year
Bernin new substrate plant final capacity
발표 계획 · 전망
2023-09발표최종능력목표.완료시점·웨이퍼직경명시없이실제연간생산으로사용금지.
NAND51
SCE001383
SOITEC
2023-09-28
SmartSiC / Smart Cut
도너 기판 재사용 횟수
10
uses_per_donor_substrate
SiC donor substrate reuse
보고 실적·확인 사건
재사용donor장수와판매SmartSiC기판수를동일시금지.
NAND51
SCE001384
COHERENT
2024-09-26
n-type SiC substrate and epitaxial wafer
출하 웨이퍼 직경
200
mm
Coherent material wafer shipments
보고 실적·확인 사건
직경200mm,두께350/500µm;출하장수아님.디바이스fab투입량과합산금지.
NAND52
SCE001385
WOLFSPEED
2022-04-25
SiC power device fabrication
개장 팹 웨이퍼 직경
200
mm
Mohawk Valley / Marcy NY device fab
보고 실적·확인 사건
첫lot4월초;소재생산공장아님.개소가fullcapacity상업양산완료를뜻하지않음.
NAND53
SCE001386
SOITEC
2017-09
RF-SOI / FD-SOI
파일럿 라인 가동
300
mm
Pasir Ris Singapore SOI material pilot line
보고 실적·확인 사건
pilot line시작;상업양산완료와구분.300mm는후속동일시설공식보고서확인직경.
NAND54
SCE001387
SOITEC
2021-07-05
300mm RF-SOI / FD-SOI
설치·인증 생산능력
200,000
wafers/year
Pasir Ris Singapore installed and qualified SOI capacity
보고 실적·확인 사건
공시시점설치·고객검증능력. 연간생산·판매실적아님;FY2021말확정시점으로강제변환하지않음.
NAND54
SCE001388
SOITEC
2026-03-31
200mm SOI
생산능력
750,000
wafers/year
Bernin1 France SOI
보고 실적·확인 사건
POI로일부능력재배치후SOI능력100만에서75만으로감소. 실제연간출하량아님.
NAND55
SCE001389
SOITEC
2026-03-31
300mm SOI
생산능력
800,000
wafers/year
Bernin2 France SOI
보고 실적·확인 사건
donor재활용능력60만장/년은판매기판능력과별개. 실제연간출하량아님.
NAND55
SCE001390
SOITEC
2026-03-31
300mm RF-SOI / FD-SOI
생산능력
800,000
wafers/year
Pasir Ris Singapore SOI
보고 실적·확인 사건
FY2026말약80만장능력. 장기100만및확장후200만목표를실적에사용금지. 실제연간출하량아님.
NAND55
SCE001391
SOITEC
2026-03-31
SmartSiC engineered SiC substrate
생산능력
150,000
wafers/year
Bernin4 France SmartSiC
보고 실적·확인 사건
현재15만,최대잠재35만장/년.2023발표최종50만과상이;직경원문범위미확정으로환산금지. 실제연간출하량아님.
NAND55
SCE001392

5. 중국 DRAM: CXMT·JHICC

CXMT의 DDR4는 2019년 9월 양산 발표, LPDDR5는 2023년 11월 제품 출시와 고객 검증이 공식 확인된다. LPDDR5X 8533/9600Mbps는 2025년 5월 양산을 시작했으며 이 사실의 발표일은 10월 28일이다. 같은 발표 당시 10667Mbps는 고객 샘플 단계였다. DDR5-8000/24Gb는 2025년 11월 전시 자료에서 확인되므로 전시를 양산으로 바꾸지 않았다. 수집일 이전인 2026년 9월에는 LPDDR6 양산과 G5 플랫폼 및 24Gb LPDDR5X 양산이 공식 발표되었다. G5의 11.95nm는 배열 AA half-pitch이며 통상적인 공정 노드명과 직접 동일시하지 않는다. 공개 생산능력 표는 TrendForce를 인용한 2025년 10월 증권사 자료의 추정 스냅샷이고 2025E/2026E는 당시 전망으로 보존했다. JHICC는 유통사 자료의 DDR4/LPDDR4X 제품 목록까지만 확인했으며 공개 TrendForce 숫자는 구독 제한으로 결측 처리했다. 중국 EUV 보유 대수를 0으로 기입하지 않았고 DUV/SAQP와 EUV를 혼동하지 않았다.

능력 추정: 출처 시점을 유지한 전망

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
CXMT
2023-11-28
LPDDR5
패키지 용량
6
GB/package
company_product
보고 실적·확인 사건
Gigabytes per mobile DRAM package, not gigabits per die.
CNE002
SCE001451
CXMT
2023-11-28
LPDDR5
패키지 용량
12
GB/package
company_product
보고 실적·확인 사건
Gigabytes per mobile DRAM package, not gigabits per die.
CNE002
SCE001452
CXMT
2025-10-28
LPDDR5X
패키지 용량 선택지
12GB, 16GB, 24GB packaged chips
GB/package
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE003
SCE001458
CXMT
2020
DRAM all products
웨이퍼 생산능력 추정
45,000
wafers/month
company_capacity_estimate
2차 자료 추정
Chart source TrendForce / LS Securities. Vintage 2025-10-10. Historical estimate, not official company actual. Chart labels K/Month; precise within-year reference date and wafer diameter are not printed in this chart. It must not be interpreted as annual production or DDR5-only capacity.
CNE008
SCE001470
CXMT
2021
DRAM all products
웨이퍼 생산능력 추정
50,000
wafers/month
company_capacity_estimate
2차 자료 추정
Chart source TrendForce / LS Securities. Vintage 2025-10-10. Historical estimate, not official company actual. Chart labels K/Month; precise within-year reference date and wafer diameter are not printed in this chart. It must not be interpreted as annual production or DDR5-only capacity.
CNE008
SCE001471
CXMT
2022
DRAM all products
웨이퍼 생산능력 추정
57,000
wafers/month
company_capacity_estimate
2차 자료 추정
Chart source TrendForce / LS Securities. Vintage 2025-10-10. Historical estimate, not official company actual. Chart labels K/Month; precise within-year reference date and wafer diameter are not printed in this chart. It must not be interpreted as annual production or DDR5-only capacity.
CNE008
SCE001472
CXMT
2023
DRAM all products
웨이퍼 생산능력 추정
122,000
wafers/month
company_capacity_estimate
2차 자료 추정
Chart source TrendForce / LS Securities. Vintage 2025-10-10. Historical estimate, not official company actual. Chart labels K/Month; precise within-year reference date and wafer diameter are not printed in this chart. It must not be interpreted as annual production or DDR5-only capacity.
CNE008
SCE001473
CXMT
2024
DRAM all products
웨이퍼 생산능력 추정
210,000
wafers/month
company_capacity_estimate
2차 자료 추정
Chart source TrendForce / LS Securities. Vintage 2025-10-10. Historical estimate, not official company actual. Chart labels K/Month; precise within-year reference date and wafer diameter are not printed in this chart. It must not be interpreted as annual production or DDR5-only capacity.
CNE008
SCE001474
CXMT
2025
DRAM all products
웨이퍼 생산능력 추정
280,000
wafers/month
company_capacity_estimate
2차 자료 추정 · 전망
Chart source TrendForce / LS Securities. Vintage 2025-10-10. Explicit forecast E, not subsequently verified realized capacity. Chart labels K/Month; precise within-year reference date and wafer diameter are not printed in this chart. It must not be interpreted as annual production or DDR5-only capacity.
CNE008
SCE001475
CXMT
2026
DRAM all products
웨이퍼 생산능력 추정
290,000
wafers/month
company_capacity_estimate
2차 자료 추정 · 전망
Chart source TrendForce / LS Securities. Vintage 2025-10-10. Explicit forecast E, not subsequently verified realized capacity. Chart labels K/Month; precise within-year reference date and wafer diameter are not printed in this chart. It must not be interpreted as annual production or DDR5-only capacity.
CNE008
SCE001476
JHICC
2026-09-29
DRAM all products
공개 웨이퍼 투입능력 공백
Numeric capacity not observable in accessible source
300mm_equivalent_wafers/month
company_capacity
2차 자료 추정
Source defines wafer-input capacity and quarterly publication, but accessible page has no numeric data. Null means missing, never zero. No EUV equipment count inferred.
CNE010
SCE001479

제품·속도·양산 확인 이력

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
CXMT
2018-07
DDR4
테이프아웃
8Gb DDR4 tape-out for manufacturing
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE001
SCE001445
CXMT
2019-05
DDR4
제품 테스트
DDR4 product successfully tested
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE001
SCE001446
CXMT
2019-09
DDR4
양산 발표
8Gb DDR4 mass production announced at World Manufacturing Convention
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE001
SCE001447
CXMT
2019-11
DDR4
상업 판매 시작
First order received and product sales launched
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE001
SCE001448
CXMT
2023-11-28
LPDDR5
제품 발표
LPDDR5 product lineup launched
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE002
SCE001449
CXMT
2023-11-28
LPDDR5
다이 비트 밀도
12
Gb/die
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE002
SCE001450
CXMT
2023-11-28
LPDDR5 12GB PoP
고객 검증
Company reports validation by Xiaomi and Transsion
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE002
SCE001453
CXMT
2025-05
LPDDR5X 8533 Mbps
양산 시작
8533 Mbps variant entered mass production
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE003
SCE001454
CXMT
2025-05
LPDDR5X 9600 Mbps
양산 시작
9600 Mbps variant entered mass production
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE003
SCE001455
CXMT
2025-10-28
LPDDR5X
고객 샘플 공급
10,667
Mbps
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE003
SCE001456
CXMT
2025-10-28
LPDDR5X
다이 비트 밀도 선택지
12Gb and 16Gb dies
Gb/die
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE003
SCE001457
CXMT
2025-11-23
DDR5
제품 전시
DDR5 portfolio showcased at IC China
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE004
SCE001459
CXMT
2025-11-23
DDR5
발표 최대 데이터 속도
≤8,000
Mbps
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE004
SCE001460
CXMT
2025-11-23
DDR5
발표 다이 비트 밀도
≤24
Gb/die
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE004
SCE001461
CXMT
2025-11-23
DDR5 modules
전시 모듈 폼팩터
UDIMM, SODIMM, CUDIMM, CSODIMM, RDIMM, MRDIMM, TFF MRDIMM
form_factor
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE004
SCE001462
CXMT
2026-10-17
LPDDR4X
제품 카탈로그 등재
LPDDR4X listed in company portfolio
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE005
SCE001463
CXMT
2026-09-20
G5 DRAM process platform
양산 발표
G5 process platform mass production announced
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE006
SCE001464
CXMT
2026-09-20
G5 / SAQP
어레이 활성 영역 하프 피치
11.95
nm
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE006
SCE001465
CXMT
2026-09-20
G5 LPDDR5X
양산 다이 비트 밀도
24
Gb/die
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE006
SCE001466
CXMT
2026-09-20
G5 versus G4 DRAM platform
웨이퍼당 총 다이 수 증가율
≥50
percent
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE006
SCE001467
CXMT
2026-09-07
LPDDR6
양산 발표
Company reports LPDDR6 mass production and commercial debut in Xiaomi 18 Fold
milestone
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE007
SCE001468
CXMT
2026-09-07
LPDDR6
발표 최대 데이터 속도
≤12,800
Mbps
company_product
보고 실적·확인 사건
CNE007
SCE001469
JHICC
2026-10-17
DDR4
유통사 제품 카탈로그 등재
Distributor presentation lists this DRAM product family
milestone
company_product
2차 자료 추정
CNE009
SCE001477
JHICC
2026-10-17
LPDDR4X
유통사 제품 카탈로그 등재
Distributor presentation lists this DRAM product family
milestone
company_product
2차 자료 추정
CNE009
SCE001478

6. 공정·플랫폼·첨단 패키징

TSMC의 첨단 공정 전환과 AI/HPC 수요 변화를 분석할 수 있도록 공정별 웨이퍼 매출 비중(2015~2025년)과 플랫폼별 연결 순매출 비중(2017~2025년)을 공식 20-F 원문에서 수집했다. 공정 표는 65nm 이하의 선택 항목으로, 90nm 이상의 성숙공정이 빠져 있으므로 연도별 합계가 100%일 필요가 없다. 플랫폼 표는 여섯 공시 항목 전체를 담았다. 2015·2016년 수치는 패키징·테스트를 웨이퍼 매출에서 제외하도록 2017년 보고서가 재작성한 수치를 사용했고, 이 시기 16/20nm를 임의로 나누지 않았다. 2017·2018년 플랫폼 수치는 2019년 플랫폼 공시 도입 때 제공된 비교가능한 과거 수치다. 반올림 0%와 미공시 대시를 구분했으며, 후자를 0으로 채우지 않았다. TSMC의 2025년 HPC 비중은 58%, 3nm·5nm·7nm 웨이퍼 매출 비중은 각각 24%·36%·14%다. HPC에는 CPU·네트워크 등도 포함되므로 AI 전용 매출로 읽을 수 없다. 매출 비중에 총 웨이퍼 출하량을 곱해 공정별 생산량을 추정하는 것은 공정별 가격·수율·제품구성 차이를 무시하므로 수행하지 않았다. CoWoS는 2023년 발표한 2024년말 2배 캐파 목표, 같은 시점의 2024년 산출량 2배 초과 전망, 2024년 7월 경영진이 보고한 전년 대비 캐파 2배 초과 현황, 2025년 2배 캐파 목표를 별도 행으로 보존했다. 각 발언의 기준일과 실제·전망 상태가 다르므로 하나의 확정 연간 생산량 시계열로 연결하면 안 된다. 공식 절대 월캐파가 확인되지 않은 CoWoS·SoIC·InFO 수치는 임의 추정하지 않았다. Advanced Backend Fab 6의 연 100만 장 초과는 12인치 등가 3DFabric 공유 공정능력에 관한 회사 추정치다. CoWoS 전용능력이나 전공정 로직 웨이퍼 스타트, 해당 연도 실제 출하량이 아니다. SoIC CoW의 2022년 SRAM-on-logic 양산과 2023년 AI 플래그십 적용 양산은 범위를 구분해 보존했다. CoWoS-L의 reticle 수는 인터포저 면적 척도이지 생산량 단위가 아니다. 삼성 I-Cube/X-Cube와 인텔 EMIB/Foveros는 공식 출시·상용화·제조거점 이력으로 보완했으며, 개발 검증·즉시 사용가능·양산 시작을 서로 다른 사건으로 기록했다. AI 학습 데이터로 사용할 때는 발표일과 대상기간을 별도 특성으로 유지하고, 2026년 발간 보고서에서 회수한 2025년 실적을 2025년 당시 알려진 정보로 취급하는 미래정보 누출을 피해야 한다.

TSMC 첨단 공정별 웨이퍼 매출 비중
2015~2025년 축에 공시된 3nm·5nm·7nm 웨이퍼 매출 비중을 표시했다. 초기 미공시 항목은 0으로 채우지 않았다. 이는 가격·제품구성의 영향을 받는 매출 비중이며 웨이퍼 생산량 비중이 아니다. PKG001 PKG002 PKG003 PKG004

TSMC 공정별 웨이퍼 매출 비중 (%)

미제시·범주 변경은 ‘—’로 표시합니다. 2015/16의 16/20nm는 합산 범주이며 2015/16 수치는 2017 보고서 재작성 기준입니다.

연도3nm5nm7nm10nm16nm20nm16/20nm28nm40/45nm65nm근거
2015——————20281412PKG001
2016——————28261411PKG001
2017———10223—231210PKG002
2018——911212—20118PKG002
2019——273201—16108PKG002
2020—833—171—1395PKG003
2021—1931—14——1175PKG003
2022—2627—13——1075PKG003
202363319—101—1066PKG004
2024183417—80—744PKG004
2025243614—70—734PKG004

TSMC 플랫폼별 연결 순매출 비중 (%)

미제시·범주 변경은 ‘—’로 표시합니다. 2015/16의 16/20nm는 합산 범주이며 2015/16 수치는 2017 보고서 재작성 기준입니다.

연도AutomotiveDCEHPCIoTOthersSmartphone근거
201756275552PKG002
201856336545PKG002
201945308449PKG002
202034338448PKG003
202144378344PKG003
202253419339PKG003
202362438338PKG004
202451516235PKG004
202551585229PKG004

CoWoS·SoIC·InFO·I-Cube·Foveros·EMIB

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
TSMC
2019
N7+ EUV
양산 시작
N7+ entered volume production using EUV lithography.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
N7+ is the EUV generation; this does not mean all 7nm-family products use EUV. No wafer count is implied.
PKG006
SCE001110
TSMC
2020-Q2
N5
양산 시작
N5 entered volume production in the second quarter of 2020.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Actual commercial production start; annual 5nm revenue shares are recorded independently.
PKG007
SCE001111
TSMC
2022
N3
양산 시작
N3 entered volume production in 2022.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
The first production start in 2022 and strong revenue ramp in 2H2023 are distinct events; N3E is a later variant.
PKG008
SCE001112
TSMC
2025-Q4
N2 nanosheet
양산 시작
N2 entered high volume manufacturing in 4Q2025 with good yield.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Retrospective fiscal 2025 statement. N2P/A16 2026 plans were not treated as completed production.
PKG009
SCE001113
TSMC
2016
InFO PoP
양산 시작
High volume manufacturing launched for mobile application processors.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Packaging milestone; not the start of frontend logic wafer processing.
PKG005
SCE001114
TSMC
2016
CoWoS with GPU and HBM2
양산 시작
Mass production started for accelerators integrating GPUs and multiple HBM2 chips.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Product-specific adoption milestone, not the first-ever introduction of all CoWoS technology.
PKG005
SCE001115
TSMC
2022
SoIC CoW SRAM-on-logic
양산 시작
Chip-on-Wafer technology entered volume production, stacking SRAM chips on logic wafers.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Frontend 3DIC stacking process in the 3DFabric umbrella. Do not add its wafer count to the same chip’s frontend or final-package count.
PKG010
SCE001116
TSMC
2022
CoWoS-S 3-reticle HBM2E
양산 시작
Volume production started for customer HPC products using multiple SoCs, HBM2E and a 3-reticle silicon interposer with eDTC.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Generation-specific volume start; not an absolute capacity or shipment metric.
PKG010
SCE001117
TSMC
2022
InFO_oS 2-reticle
양산 시작
Volume production started for multiple-SoC 2-reticle fan-out packages on a substrate larger than 90mm x 90mm.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
2-reticle describes package area, not two wafers, throughput or a capacity multiplier.
PKG010
SCE001118
TSMC
2022
InFO_LSI N5
양산 시작
Volume production started for 5nm SoCs connected by local silicon interconnects.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
5nm describes the connected logic SoCs, not an inferred node for the whole package.
PKG010
SCE001119
TSMC
2023
SoIC for flagship AI products
양산 시작
SoIC frontend 3DIC entered mass production for customers’ next generation flagship AI products.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Application-specific 2023 disclosure; the separately reported 2022 SoIC CoW SRAM-on-logic milestone is retained with its narrower scope.
PKG011
SCE001120
TSMC
2024
SoIC CoW Face-to-Back Gen-2
생산 시작
Qualified and started production in 2024.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
The source says production, without explicitly labeling high volume; the observation preserves that qualification.
PKG012
SCE001121
TSMC
2024
CoWoS-L first generation
양산 시작 시 인터포저 크기
First 3.5-reticle CoWoS-L entered production in 2024.
reticle_equivalent_area
initial_CoWoS_L_reconstituted_interposer
보고 실적·확인 사건
The first CoWoS-L at 3.5-reticle size entered production in 2024. Reticle equivalent area measures interposer scale; it is not wafer volume or installed capacity. The 5.5-reticle version remained development in this report.
PKG012
SCE001122
TSMC
2024-12-31
CoWoS all variants
생산능력 배율 목표
2
times_reference_capacity
company_CoWoS_capacity
회사 전망 · 전망
As of 2023-10-19, target to double capacity by end-2024. The comparison is to the then-referenced existing/2023 capacity; no exact reference date, absolute wafers/month or utilization was given. Do not interpret as realized annual 2024 capacity.
PKG013
SCE001123
TSMC
2024
CoWoS all variants
연간 생산 배율 전망
>2
times_2023_annual_output
company_CoWoS_total_output
회사 전망 · 전망
Forward-looking as of 2023-10-19, despite conversational present tense: 2024 had not occurred. Output was forecast to exceed twice 2023, distinct from the end-2024 capacity target. No absolute package or wafer basis was disclosed.
PKG013
SCE001124
TSMC
2024-07-18
CoWoS all variants combined
전년 기준 시점 대비 생산능력 배율
>2
times_prior_year_referenced_capacity
company_CoWoS_capacity_snapshot
보고 실적·확인 사건
Management said from last year to this year capacity had more than doubled. Recorded as a management-reported snapshot at the call date, not a closed-year annual average or realized end-2024 capacity. Comparison-date granularity is unspecified. Includes CoWoS-S/L/R together; no variant split or absolute monthly count disclosed.
PKG014
SCE001125
TSMC
2025
CoWoS all variants combined
생산능력 배율 목표
2
times_2024_referenced_capacity
company_CoWoS_capacity
회사 전망 · 전망
As of 2025-04-17, management was working to double capacity in 2025. This is a plan/forecast for capacity, not reported full-year actual output. Baseline and endpoint are not stated as annual average versus year-end, so do not annualize or infer wafers/month.
PKG015
SCE001126
TSMC
2023-06-08
3DFabric shared SoIC/InFO/CoWoS
설계 연간 생산능력 추정
>1,000,000
300mm_equivalent_3DFabric_process_wafers/year
Advanced_Backend_Fab_6_Zhunan
회사 전망 · 전망
Future estimated fab capability announced at opening; capacity horizon/full ramp date unspecified. More than one million 12-inch equivalent 3DFabric process wafers per year. Shared platform capacity cannot be assigned entirely to CoWoS, SoIC or InFO. These backend/stacking process equivalents are not frontend logic wafer starts, unique chips or observed 2023 shipments.
PKG016
SCE001127
Samsung
2018
I-Cube2
기술 발표
I-Cube2 launched in 2018.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Explicit retrospective date in the 2021 company release. Launch year is not a quantified production start or installed capacity.
PKG017
SCE001128
Samsung
2020-08-13
X-Cube 7nm/5nm
기술 이용 가능 시점
Silicon-proven 3D IC design methodology and flow became immediately available for 7nm and 5nm.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Includes a 7nm test chip with SRAM stacked on logic using TSV. Availability does not establish mass production or shipment volume.
PKG018
SCE001129
Samsung
2021-05-06
I-Cube4
기술 이용 가능 시점
Commercial 2.5D solution became immediately available, integrating four HBMs and one logic die.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Four HBMs describes integration configuration, not four wafers or packaging throughput. No absolute capacity was stated.
PKG017
SCE001130
Intel
2017
EMIB 2.5D
양산 시작
EMIB entered mass production in 2017 with Intel and external silicon.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Explicit retrospective company technology-page statement retrieved in 2026; original page publication date not verified.
PKG019
SCE001131
Intel
2020-06-10
Foveros / Lakefield
상용 제품 발표
Lakefield Intel Core processors using Foveros 3D packaging launched.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Commercial product launch; source does not provide annual Foveros wafer or package output.
PKG020
SCE001132
Intel
2023-12-14
Foveros / Core Ultra Meteor Lake
상용 제품 발표
Core Ultra mobile processors using Foveros became globally available.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Intel 4 refers to the compute process. Foveros is a packaging integration technology and not a process-node alias.
PKG021
SCE001133
Intel
2024-01-24
Fab 9 / Foveros
제조 사업장 개장
Fab 9 opened in Rio Rancho as part of the co-located high volume 3D advanced packaging site with Fab 11x.
milestone
technology_or_product_specific
보고 실적·확인 사건
Site opening, not an absolute capacity value. No wafer-count estimate is inferred from investment or cleanroom size.
PKG022
SCE001134

7. 설비투자·R&D·감가상각

설비투자는 당해 생산량이나 장비구매 대수와 다르다. TSMC CAPEX는2001–2025 명목NTD, Samsung은2016–2025 전체와DS, Micron은FY2023–26현금PPE와FY2024–26비GAAP순CAPEX를 분리했다. Samsung 전체와DS를 합산하지 않고 Micron 현금PPE·순CAPEX·정부지원금을 중복합산하지 않는다. Micron FY2026은2026-09-03종료53주이며Calendar2026실적이 아니다. 환율 변환과인플레이션 조정은 하지 않았다. R&D와상각비는 회계 비용으로, 설비투자의 현금유출과다르다.

삼성전자 전체 및 반도체 부문 CAPEX
2016~2025년 삼성전자 연결 전체와 반도체 DS 부문 설비투자를 동일 단위(조 원)로 나란히 비교했다. DS는 전체에 포함되므로 두 값을 합산하거나 적층하지 않았다. 회사 정의 CAPEX로 EUV 장비 투자만을 뜻하지 않는다. FIN_SS_2016 FIN_SS_2017 FIN_SS_2018 FIN_SS_2019 FIN_SS_2020 FIN_SS_2021 FIN_SS_2022 FIN_SS_2023 FIN_SS_2024 FIN_SS_2025

통화·가격 수준은 원문 그대로입니다. USD 환산이나 인플레이션 조정은 하지 않았습니다. 투자액으로 장비 대수나 웨이퍼 능력을 역산하지 않습니다. 삼성 전체 CAPEX와 반도체 부문은 부분·전체 관계이므로 합산할 수 없습니다. TSMC의 2011년 이전 R.O.C. GAAP와 2012년 이후 IFRS는 회계기준 전환을 포함합니다.

TSMC 원문 투자·비용 이력

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
TSMC
2001
all_products
회사 정의 설비투자
70,201
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001480
TSMC
2002
all_products
회사 정의 설비투자
55,236
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001481
TSMC
2003
all_products
회사 정의 설비투자
37,871
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001482
TSMC
2004
all_products
회사 정의 설비투자
81,095
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001483
TSMC
2005
all_products
회사 정의 설비투자
79,879
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001484
TSMC
2006
all_products
회사 정의 설비투자
78,737
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2010
SCE001485
TSMC
2007
all_products
회사 정의 설비투자
84,001
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001486
TSMC
2008
all_products
회사 정의 설비투자
59,223
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001487
TSMC
2009
all_products
회사 정의 설비투자
87,785
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001488
TSMC
2010
all_products
회사 정의 설비투자
186,944
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001489
TSMC
2011
all_products
회사 정의 설비투자
213,963
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001490
TSMC
2012
all_products
회사 정의 설비투자
246,137
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2016
SCE001491
TSMC
2013
all_products
회사 정의 설비투자
287,595
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2016
SCE001492
TSMC
2014
all_products
회사 정의 설비투자
288,540
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2018
SCE001493
TSMC
2015
all_products
회사 정의 설비투자
257,517
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2018
SCE001494
TSMC
2016
all_products
회사 정의 설비투자
328,045
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001495
TSMC
2017
all_products
회사 정의 설비투자
330,588
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001496
TSMC
2018
all_products
회사 정의 설비투자
315,582
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001497
TSMC
2019
all_products
회사 정의 설비투자
460,422
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001498
TSMC
2020
all_products
회사 정의 설비투자
507,239
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001499
TSMC
2001
all_products
감가상각·상각 비용
55,323
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001500
TSMC
2002
all_products
감가상각·상각 비용
65,001
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001501
TSMC
2003
all_products
감가상각·상각 비용
69,161
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001502
TSMC
2004
all_products
감가상각·상각 비용
69,819
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001503
TSMC
2005
all_products
감가상각·상각 비용
75,649
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001504
TSMC
2006
all_products
감가상각·상각 비용
73,715
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2010
SCE001505
TSMC
2007
all_products
감가상각·상각 비용
80,005
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001506
TSMC
2008
all_products
감가상각·상각 비용
81,512
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001507
TSMC
2009
all_products
감가상각·상각 비용
80,815
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001508
TSMC
2010
all_products
감가상각·상각 비용
87,810
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001509
TSMC
2011
all_products
감가상각·상각 비용
107,682
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001510
TSMC
2012
all_products
감가상각·상각 비용
131,349
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2016
SCE001511
TSMC
2013
all_products
감가상각·상각 비용
156,182
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2016
SCE001512
TSMC
2014
all_products
감가상각·상각 비용
200,252
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2018
SCE001513
TSMC
2015
all_products
감가상각·상각 비용
222,506
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2018
SCE001514
TSMC
2016
all_products
감가상각·상각 비용
223,828
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001515
TSMC
2017
all_products
감가상각·상각 비용
260,143
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001516
TSMC
2018
all_products
감가상각·상각 비용
292,546
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001517
TSMC
2019
all_products
감가상각·상각 비용
286,884
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001518
TSMC
2020
all_products
감가상각·상각 비용
331,725
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001519
TSMC
2021
all_products
회사 정의 설비투자
839,196
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2022
SCE001520
TSMC
2022
all_products
회사 정의 설비투자
1,082,672
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2024
SCE001521
TSMC
2023
all_products
회사 정의 설비투자
949,817
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2025
SCE001522
TSMC
2024
all_products
회사 정의 설비투자
956,007
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2025
SCE001523
TSMC
2025
all_products
회사 정의 설비투자
1,272,411
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2025
SCE001524
TSMC
2003
all_products
연구개발비
12,713
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001525
TSMC
2004
all_products
연구개발비
12,516
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001526
TSMC
2005
all_products
연구개발비
14,017
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2005
SCE001527
TSMC
2008
all_products
연구개발비
21,481
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2010
SCE001528
TSMC
2009
all_products
연구개발비
21,593
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001529
TSMC
2010
all_products
연구개발비
29,707
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001530
TSMC
2011
all_products
연구개발비
33,830
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2011
SCE001531
TSMC
2013
all_products
연구개발비
47,952
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2015
SCE001532
TSMC
2014
all_products
연구개발비
56,829
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2016
SCE001533
TSMC
2015
all_products
연구개발비
65,545
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2016
SCE001534
TSMC
2016
all_products
연구개발비
71,208
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2018
SCE001535
TSMC
2017
all_products
연구개발비
80,733
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2018
SCE001536
TSMC
2018
all_products
연구개발비
85,895
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2020
SCE001537
TSMC
2019
all_products
연구개발비
91,419
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2021
SCE001538
TSMC
2020
all_products
연구개발비
109,486
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2022
SCE001539
TSMC
2021
all_products
연구개발비
124,735
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2022
SCE001540
TSMC
2022
all_products
연구개발비
163,262
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2024
SCE001541
TSMC
2023
all_products
연구개발비
182,370
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2025
SCE001542
TSMC
2024
all_products
연구개발비
204,182
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2025
SCE001543
TSMC
2025
all_products
연구개발비
246,427
million_TWD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_TS_2025
SCE001544

Samsung 원문 투자·비용 이력

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Samsung
2016
all_products
회사 정의 설비투자
25.5
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2016
SCE001545
Samsung
2016
all_products
회사 정의 설비투자
13.2
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2016
SCE001546
Samsung
2017
all_products
회사 정의 설비투자
43.4
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2017
SCE001547
Samsung
2017
all_products
회사 정의 설비투자
27.3
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2017
SCE001548
Samsung
2018
all_products
회사 정의 설비투자
29.4
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2018
SCE001549
Samsung
2018
all_products
회사 정의 설비투자
23.7
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2018
SCE001550
Samsung
2019
all_products
회사 정의 설비투자
26.9
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2019
SCE001551
Samsung
2019
all_products
회사 정의 설비투자
22.6
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2019
SCE001552
Samsung
2020
all_products
회사 정의 설비투자
38.5
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2020
SCE001553
Samsung
2020
all_products
회사 정의 설비투자
32.9
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2020
SCE001554
Samsung
2021
all_products
회사 정의 설비투자
48.2
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2021
SCE001555
Samsung
2021
all_products
회사 정의 설비투자
43.6
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2021
SCE001556
Samsung
2022
all_products
회사 정의 설비투자
53.1
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2022
SCE001557
Samsung
2022
all_products
회사 정의 설비투자
47.9
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2022
SCE001558
Samsung
2023
all_products
회사 정의 설비투자
53.1
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2023
SCE001559
Samsung
2023
all_products
회사 정의 설비투자
48.4
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2023
SCE001560
Samsung
2024
all_products
회사 정의 설비투자
53.6
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2024
SCE001561
Samsung
2024
all_products
회사 정의 설비투자
46.3
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2024
SCE001562
Samsung
2025
all_products
회사 정의 설비투자
52.7
trillion_KRW
company_total
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2025
SCE001563
Samsung
2025
all_products
회사 정의 설비투자
47.5
trillion_KRW
semiconductor_DS_division
보고 실적·확인 사건
FIN_SS_2025
SCE001564

Micron 원문 투자·비용 이력

회사·대상기간제품·지표값·단위범위·상태·해석근거
Micron
FY2023
all_products
감가상각·상각 비용
7,756
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2025
SCE001565
Micron
FY2023
all_products
유형자산 취득 현금 유출
7,676
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2025
SCE001566
Micron
FY2023
all_products
정부 설비투자 인센티브 현금 유입
710
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2025
SCE001567
Micron
FY2023
all_products
연구개발비
3,114
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2025
SCE001568
Micron
FY2026
all_products
감가상각·상각 비용
9,503
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001569
Micron
FY2025
all_products
감가상각·상각 비용
8,352
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001570
Micron
FY2024
all_products
감가상각·상각 비용
7,780
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001571
Micron
FY2026
all_products
유형자산 취득 현금 유출
30,712
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001572
Micron
FY2025
all_products
유형자산 취득 현금 유출
15,857
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001573
Micron
FY2024
all_products
유형자산 취득 현금 유출
8,386
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001574
Micron
FY2026
all_products
정부 설비투자 인센티브 현금 유입
3,316
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001575
Micron
FY2025
all_products
정부 설비투자 인센티브 현금 유입
2,005
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001576
Micron
FY2024
all_products
정부 설비투자 인센티브 현금 유입
315
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001577
Micron
FY2026
all_products
연구개발비
5,650
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001578
Micron
FY2025
all_products
연구개발비
3,798
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001579
Micron
FY2024
all_products
연구개발비
3,430
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_2026
SCE001580
Micron
FY2024
all_products
비GAAP 순설비투자
8,121
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_N2024
SCE001581
Micron
FY2025
all_products
비GAAP 순설비투자
13,804
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_N2025
SCE001582
Micron
FY2026
all_products
비GAAP 순설비투자
27,370
million_USD
consolidated
보고 실적·확인 사건
FIN_MU_N2026
SCE001583

8. 지역별 반도체 제조장비시장

SEMI/SEAJ 장비시장 통계를2016–2025세계및7지역으로확장했다.세계합계는2016년41.24십억USD,2021년102.64십억USD,2025년135.06십억USD다.2025본사발표135.1은반올림이며세부표135.06을사용했다.이시장에는노광뿐아니라전공정·후공정·시험·기타장비가포함되므로ASML EUV대수나회사CAPEX와직접합산하지않는다.지역은장비시장목적지이며기업국적이나매출귀속국가와다르다.공식일본어번역의최초게시일이확인안된경우null로두고원통계발표일을별도기록했다.

세계 반도체 장비 판매액의 지역별 이력
2016~2025년 지역별 반도체 장비 billings를 적층 막대로 표시하고, 공시 세계합계는 별도 선으로 겹쳤다. Global을 지역 구성요소에 다시 더하지 않았다. 명목 미 달러 금액이며 지역별 반올림 때문에 적층합과 세계합계가 미세하게 다를 수 있다. EQM01 EQM02 EQM03 EQM04 EQM05

장비 billings — billion USD, 명목금액

연도GlobalChinaTaiwanSouth KoreaJapanNorth AmericaEuropeRest of World근거
201641.246.4612.237.694.634.492.183.55EQM01
201756.628.2311.4917.956.495.593.673.20EQM01
201864.5313.1110.1717.719.475.834.224.04EQM02
201959.7513.4517.129.976.278.152.272.52EQM02
202071.1918.7217.1516.087.586.532.642.48EQM03
2021102.6429.6224.9424.987.807.613.254.44EQM03
2022107.6428.2726.8221.518.3510.486.285.95EQM04
2023106.2536.6019.6219.947.9312.056.463.65EQM04
2024117.1449.5516.5620.477.8313.694.854.19EQM05
2025135.0649.3131.5025.759.5210.892.865.23EQM05

Global은 지역 부분합의 부모 집계입니다. 지역과 Global을 더하지 않습니다. 원표 반올림으로 지역 합계와 세계 합계에 작은 차이가 있으며, 2025년 보도자료 제목의 135.1은 원표 135.06을 반올림한 표현입니다. 통계 원발표일과 날짜 미확인 번역 페이지는 별도 메타데이터로 보존했습니다.

9. AI 개발용 데이터 구조와 사용 범위

모든 관측에는 회사·대상기간·단위·제품/기술·집계 범위·실적/추정/계획·출처·원문 위치가 연결됩니다. 원자료와 정규화 값을 함께 저장해 향후 수정·재검증이 가능합니다.

필드·파일사용 방법
observation_id / legacy_observation_idv2 고유ID / 기존779행 추적ID. native_record_json은 통합 전 원행을 손실 없이 보존.
metric + unit + product_or_technology + scope모델 입력 전에 이 네 필드와 기간 기준을 함께 선택. 회사·연도만으로 합산 금지.
value / value_min / value_max / value_text점값·범위·부등호·언어 구간을 구분. high20% 같은 표현의 임의 중앙값을 만들지 않음.
comparator / comparison_basis / native_comparator숫자 비교 연산자와 YoY/QoQ 기준을 분리. 원 비교표현도 보존.
record_kind점수치 / 범위 / 부등호 / 이산선택지 / 이정표 / 정성 / 공개공백. 제품 사양 숫자를 생산 수량으로 학습시키지 않음.
status / is_forecast / forecast_as_of과거 시점 전망은 시간이 지났어도 전망으로 보존. CXMT2025E/2026E를 실현 실적으로 바꾸지 않음.
available_date_verified / period공시 가용일과 측정 대상기간을 별도 유지. 검증 가용일이 null이면 과거 시점 학습에 사용하기 전 날짜 추가 검증.
source_id / locator / source_url인용과 검증을 위한 근거 연결. sources 표에는 동일URL의 다른 용도 레코드가 있을 수 있음.
rag_facts_ko.jsonl출처·불확실성을 포함한 한국어 검색 문서. 수치 예측의 정답 테이블과 분리해 사용.
semiconductor_history.sqliteobservations·sources·companies·metric_dictionary·company_metric_coverage 표와 조회 인덱스. 읽기 전용 연결 권장.
legacy_normalized_200mm.csv기존 웨이퍼 중 명시적 직경·환산 기준이 있는606행만 포함. EUV·비트·돈·공정 매출비중은 환산하지 않음.

시점·누락·정합성 검증

신규 884행은 점수치 699행, 범위·부등호 29행, 이정표 103행, 정성 49행, 이산 선택지 3행, 공개 공백 1행입니다. 신규 135행은 출처의 정확한 일자 가용일을 확인하지 못해 null로 남겼습니다. 이를 연말 날짜로 임의 대체하면 안 됩니다.

회사·출처 참조키, 고유 ID, 기존779행의 원자료 보존, 범위·부등호, CXMT전망 플래그, ASML 부모·부분 대수, 신품/중고 합계, SEMI지역 합계, 금융 지표의 부호·단위를 검증했습니다. 데이터 행의 구조 검증이 모든 원문 수치의 무오류나 모든 회사의 완전한 공개를 뜻하지는 않습니다. 검증 결과와 원문 접근 한계는 JSON으로 함께 제공합니다.

현재 공개 자료로 채우지 못한 항목

원문 전체 재배포나 모델 학습 이용 권한은 각 출처의 조건을 별도로 확인해야 합니다. 이 패키지는 사실·요약·원문 위치를 중심으로 구성했습니다.

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전체 근거 기록 검색

서버 연결 없이 이 HTML 안의 데이터를 검색합니다. 기본값은 이번에 추가한884행입니다. 검색 결과를 CSV로 내려받을 수 있습니다.

회사·기간지표·제품값·단위범위·상태·해석근거

10. 이번 확장 출처 목록

새 출처 레코드는219개입니다. 기존253개는 파일 내 출처표와 기존 보고서에 보존했습니다. 전체472개 레코드의 고유 원문URL은448개입니다. 같은 원문을 다른 분야에서 사용한 레코드가 존재합니다. 미확인·부분 공시일은 그대로 표시했습니다.

EUV·DUV 노광장비 대수

EQASE2009 · ASML Annual Report 2009 on Form 20-F
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000095012310006383/u08158e20vf.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2010-01-29 · 조회 2026-10-17
위치: Item 5: Results of operations 2009 compared with 2008, Net sales and gross profit; executive summary immersion shipments

2009: 70 systems sold, comprising 47 new and 23 used; 36 immersion systems shipped.

EQASE2010 · ASML Annual Report 2010 on Form 20-F
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000095012311013996/u09689e20vf.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2011-02-15 · 조회 2026-10-17
위치: Item 5: Results of operations 2010 compared with 2009; revenue recognition; business overview

2010: 197 systems sold, 154 new and 43 used; first second-generation EUV system shipped; 34 TWINSCAN NXT systems sold.

EQASE2012 · ASML Annual Report 2012 on Form 20-F
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000119312513053249/d347771d20f.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2013-02-13 · 조회 2026-10-17
위치: Item 5 executive summary, footnotes 5–6; Note 1 revenue recognition

2010–2012: immersion recognition 95/101/72; NXE recognition 0/3/1; NXT:19X0i recognition 34/78/68. Six NXE:3100 shipped cumulatively through 2012. Explicit 2011 physical NXE:3100 shipments: five.

EQASE2013 · ASML Annual Report 2013 on Form 20-F
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000119312514046822/d546896d20f.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2014-02-12 · 조회 2026-10-17
위치: Item 5 operating results; financial statements Note 21 Segment Disclosure: Net system sales per technology

2011–2013 product unit sales by EUV/ArFi/ArF dry/KrF/i-line; new and used unit totals.

EQASE2016 · ASML Annual Report 2016 on Form 20-F
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000093796617000007/a20-fasml2016.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2017-02-08 · 조회 2026-10-17
위치: Item 5 operating results and executive summary footnote 3; financial statements Note 20 Segment Disclosure, F-42

2014–2016 product unit sales by EUV/ArFi/ArF/KrF/i-line; new and used unit totals; NXT:1980 recognition 0/7/46.

EQAS_AR2019 · ASML Annual Report 2019, net system sales per technology (XBRL table)
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000093796620000011/R64.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2020-02-12 · 조회 2026-10-17
위치: Revenue from Contract with Customer – Net System Sales per Technology (Details), 2019/2018/2017 columns

2017–2019 unit sales by EUV, ArFi, ArF dry, KrF, i-line and metrology/inspection; 2017 comparative reflects ASC 606 adoption.

EQAS_AR2022 · ASML Annual Report 2022, revenue from contracts with customers (XBRL table)
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000093796623000014/R40.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2023-02-15 · 조회 2026-10-17
위치: Schedule of net system sales in units; revenue-recognition policy for established technologies, fast shipments and used systems

2020–2022 unit sales by technology. Revenue policy explains customer acceptance after fast shipment, so shipments and recognized units can differ.

EQAS_AR2025 · ASML Annual Report 2025, revenue from contracts with customers (XBRL table)
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000162828026011378/R13.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2026-02-25 · 조회 2026-10-17
위치: Disaggregation of revenue, net system sales per technology, 2023/2024/2025 columns; accounting policy

2023–2025 unit sales separately identify EXE High-NA and NXE Low-NA. The all-system total includes metrology/inspection. Bill-and-hold and acceptance policies reinforce the difference from physical shipments.

EQAS_AR2025_FP · ASML Annual Report 2025, Financial performance (US GAAP extract)
https://investor.asml.com/static-files/f98553ea-bc52-49ed-ada0-8513a8a6fde5
ASML Holding N.V. · 공개일 2026-02-25 · 조회 2026-10-17
위치: PDF pp. 5 and 7 (printed pp. 53 and 55), lithography systems and EUV system recognition

2025/2024 lithography units 327/418 and EUV units 48/44. EUV totals include EXE 4/2 and NXE 44/42.

EQAS_PR2018 · ASML 2018 fourth-quarter and full-year results
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000093796619000003/pressreleasequarterlyresul.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2019-01-23 · 조회 2026-10-17
위치: US GAAP financial summary; New lithography systems sold / Used lithography systems sold; relevant footnotes and CEO comments

2017 restated: new 173, used 24; 2018: new 207, used 17. Comparative adjusted for ASC 606/842.

EQAS_PR2023 · ASML 2023 fourth-quarter and full-year results
https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-reports-eu27.6-billion-net-sales-and-eu7.8-billion-net-income-2023
ASML Holding N.V. · 공개일 2024-01-24 · 조회 2026-10-17
위치: US GAAP financial summary; New lithography systems sold / Used lithography systems sold; relevant footnotes and CEO comments

2022: new 317, used 28; 2023: new 421, used 28. First modules of first High-NA system shipped before end-2023, not a complete system recognition.

EQAS_PR2025 · ASML 2025 fourth-quarter and full-year results
https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/q4-2025-financial-results
ASML Holding N.V. · 공개일 2026-01-28 · 조회 2026-10-17
위치: US GAAP financial summary; New lithography systems sold / Used lithography systems sold; relevant footnotes and CEO comments

2024: new 380, used 38; 2025: new 300, used 27. Q4 2025 included revenue recognition for two High-NA systems.

EQAS_IR2022 · ASML 2022 fourth-quarter and full-year investor presentation
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000093796623000003/presentationinvestorrela.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2023-01-25 · 조회 2026-10-17
위치: Slide 6, 2022 highlights; slide 16, consolidated statements of operations

2022 EUV physical shipments 54 versus recognized units 40. Slide 16 provides 2018–2022 lithography sales counts, excluding metrology and inspection.

EQAS_IR2023 · ASML 2023 fourth-quarter and full-year investor presentation
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000093796624000003/presentationinvestorrela.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2024-01-24 · 조회 2026-10-17
위치: Slide 6, 2023 business summary; slide 7, first High-NA modules; slide 17, consolidated statements of operations

2023 EUV physical shipments 42 versus recognized units 53; first modules of first High-NA shipped separately. Slide 17 provides lithography sales totals.

EQAS_IR_Q32026 · ASML Q3 2026 investor presentation
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000162828026065813/a2026_10x14xpresentation.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2026-10-14 · 조회 2026-10-17
위치: Slide 15, consolidated statements of operations, lithography systems sold (units) and footnote

Lithography systems sold: Q3 2025 72, Q4 2025 102, Q1 2026 79, Q2 2026 91, Q3 2026 121; metrology/inspection excluded.

EQAS_CALL_Q32026 · ASML 2026-Q3 investor call prepared remarks
https://investor.asml.com/static-files/40c56a6b-1460-4f69-9340-6a869560d24b
ASML Holding N.V. · 공개일 2026-10-14 · 조회 2026-10-17
위치: PDF p. 1, CFO financial review; output discussion on PDF p. 3

2026-Q3 EUV system sales included 1 High-NA systems. Q3 remarks also disclose 2025 Low-NA shipments of 44 and a 2026 output forecast around 65.

EQAS_H12026 · ASML Statutory Interim Report 2026
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000162828026048235/statutoryinterimreport20.htm
ASML Holding N.V. / U.S. Securities and Exchange Commission · 공개일 2026-07-15 · 조회 2026-10-17
위치: Printed p. 6, operational update; printed p. 18, Note 2 net system sales per technology

EU-IFRS six-month unit sales by technology: first half 2026 and comparative first half 2025. H1 2026 NXE 29, EXE 3; lithography 170, new 153, used 17.

미세공정·응용처·첨단 패키징

PKG001 · TSMC 2017 Annual Report on Form 20-F
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/20F-2017.pdf
TSMC · 공개일 2018-04-19 · 조회 2026-10-17
위치: Item 5, Technology Migration, printed p.22; PDF page index 25, lines 1085–1116. Filing date confirmed by TSMC SEC Filings index.

Technology Migration table reports 2015/2016/2017 node revenue percentages. It explicitly restates 2015 and 2016 to exclude packaging and testing from wafer revenue on the 2017 classification basis.

PKG002 · TSMC 2019 Annual Report on Form 20-F
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/20F-2019.pdf
TSMC · 공개일 2020-04-15 · 조회 2026-10-17
위치: Item 4B platform table, printed pp.16–17 / PDF indices 19–20; Item 5 Technology Migration, printed p.22 / PDF index 25, lines 1034–1058. Filing date from issuer SEC Filings index.

Reports node percentages for 2017–2019 and platform percentages for 2017–2019. Platform reporting began in 2019 and the report provides 2017/2018 on a comparable basis.

PKG003 · TSMC 2022 Annual Report on Form 20-F
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/2022%2020-F.pdf
TSMC · 공개일 2023-04-20 · 조회 2026-10-17
위치: Item 4B platform table, printed p.17 / PDF index 21, lines 825–835; Item 5 technology table, printed p.24 / PDF index 28, lines 1075–1103.

Reports 2020–2022 platform net revenue percentages and node wafer revenue percentages. 5nm shares are 8%,19%,26%; 7nm shares are 33%,31%,27%. A dash appears for 20nm in 2021/2022.

PKG004 · TSMC 2025 Annual Report on Form 20-F
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/2025_20F%20Report.pdf
TSMC · 공개일 2026-04-16 · 조회 2026-10-17
위치: Item 4B platform table, printed p.19 / PDF index 24, lines 1032–1043; Item 5 technology table, printed p.27 / PDF index 32, lines 1369–1399. Note 22 monetary detail confirms 0% rounding does not mean no 20nm activity.

Reports 2023–2025 platform and node revenue shares. HPC is 43%,51%,58%; 3nm is 6%,18%,24%; 5nm is 33%,34%,36%; 7nm is 19%,17%,14%. The rounded 20nm shares for 2024/2025 are explicitly 0%.

PKG005 · TSMC 2016 Annual Report – Technology Leadership
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2016/english/e_5_2.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Integrated Interconnect and Packaging, 3D IC subsection, web lines 105–110; retrospective report for fiscal 2016.

The 2016 technology review states that InFO PoP entered high volume manufacturing for mobile application processors and that CoWoS mass production began for accelerators integrating GPUs and multiple HBM2 chips.

PKG006 · TSMC 2019 Annual Report – Letter to Shareholders
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2019/english/index.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Technological Developments, N7+ paragraph; report for fiscal 2019.

The letter reports that N7+ entered volume production in 2019 and was TSMC’s first commercial EUV process in high volume manufacturing.

PKG007 · TSMC 2020 Annual Report – Letter to Shareholders
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2020/english/index.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Technological Developments, web lines 33–38.

N5 successfully entered volume production in the second quarter of 2020. The letter separately says N6 entered volume production at the end of 2020 and identifies N7,N7+,N6 as the 7nm family.

PKG008 · TSMC 2022 Annual Report – Technological Developments
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2022/english/ebook/files/basic-html/page10.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Printed p.8, ebook HTML page10, Technological Developments.

The shareholder letter confirms N3 entered volume production in 2022, with N3E separately scheduled for the second half of 2023. It also confirms N4 entered volume production in 2022.

PKG009 · TSMC 2025 Annual Report – Letter to Shareholders
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2025/english/index.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Letter to Shareholders, web lines 12–18.

The fiscal 2025 review confirms N2 successfully entered high volume manufacturing in 4Q2025 with good yield; N2P and A16 are separately scheduled for 2H2026.

PKG010 · TSMC 2022 Annual Report – 3DFabric Technology Review
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2022/english/ebook/files/basic-html/page97.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Printed p.95, ebook HTML page97, TSMC 3DFabric bullet points.

The 2022 review confirms volume production starts for SoIC CoW SRAM-on-logic, 3-reticle CoWoS-S with HBM2E, InFO_oS and InFO_LSI. It distinguishes CoWoS-R risk production and SoIC WoW demonstrations.

PKG011 · TSMC 2023 Annual Report – Letter to Shareholders
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2023/english/index.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Letter to Shareholders, advanced packaging and SoIC paragraphs, web lines 22–23.

The letter states that frontend SoIC 3DIC entered mass production in 2023 to enable customers’ next generation flagship AI products. This application scope differs from the SRAM-on-logic CoW start disclosed for 2022.

PKG012 · TSMC 2024 Annual Report – 3DIC, SoIC and CoWoS
https://investor.tsmc.com/static/annualReports/2024/english/ebook/files/basic-html/page102.html
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Printed p.100, ebook HTML page102, 3DIC and TSMC-SoIC / CoWoS subsections.

SoIC CoW Face-to-Back Gen-2 was qualified and started production in 2024. The first CoWoS-L at 3.5-reticle interposer size entered production in 2024; 5.5-reticle CoWoS-L was still development.

PKG013 · TSMC 3Q2023 Earnings Conference Call Transcript
https://investor.tsmc.com/japanese/encrypt/files/encrypt_file/reports/2023-10/b2fc08165bbaf6fc1a2db26500e6f78f1db85ebd/TSMC%203Q23%20Transcript.pdf
TSMC / Refinitiv · 공개일 2023-10-19 · 조회 2026-10-17
위치: Q&A with Sunny Lin, printed p.17 / PDF index 16, lines 551–561.

Management maintained a target of doubling CoWoS capacity by end-2024 and separately forecast more than doubling total output from 2023 to 2024. Both were forward-looking statements at the 2023 call.

PKG014 · TSMC 2Q2024 Earnings Conference Call Transcript
https://investor.tsmc.com/japanese/encrypt/files/encrypt_file/reports/2024-08/5122725a56670882d777a8e8bfe0ed247cc55330/TSMC%202Q24%20Transcript.pdf
TSMC / Refinitiv · 공개일 2024-07-18 · 조회 2026-10-17
위치: Q&A with Charles Shi, printed p.13 / PDF index 12, lines 410–423. File path is August but event date is July 18.

In the Q&A, management said capacity had more than doubled from last year to this year, combining all CoWoS variants. It wanted to double again, or possibly more, in the next year. No absolute monthly count or product split was disclosed.

PKG015 · TSMC 1Q2025 Earnings Conference Call Transcript
https://investor.tsmc.com/english/encrypt/files/encrypt_file/reports/2025-04/7630274eecc1197a4e3ea6a415f44a47204fe10a/TSMC%201Q25%20Transcript.pdf
TSMC / Refinitiv · 공개일 2025-04-17 · 조회 2026-10-17
위치: Prepared remarks, printed p.5 / PDF index 4, lines 121–124; Q&A, printed p.7 / PDF index 6, lines 205–219.

Prepared remarks state that TSMC is working to double CoWoS capacity in 2025. Management reiterates the expansion in the Q&A and says it cannot provide a numerical 2026 capacity figure.

PKG016 · TSMC Announces Opening of Advanced Backend Fab 6
https://pr.tsmc.com/japanese/news/3033
TSMC · 공개일 2023-06-08 · 조회 2026-10-17
위치: Press release body, web lines 306–309. English release text is hosted under the Japanese site path.

The opening release estimates Fab 6 will have more than one million 12-inch equivalent 3DFabric process wafers per year. Capacity is flexibly shared across SoIC, InFO, CoWoS and testing; it is not disclosed as standalone CoWoS capacity.

PKG017 · Samsung Announces Availability of I-Cube4 2.5D Integration
https://news.samsung.com/global/samsung-electronics-announces-availability-of-its-next-generation-2-5d-integration-solution-i-cube4-for-high-performance-applications
Samsung Electronics · 공개일 2021-05-06 · 조회 2026-10-17
위치: Release paragraphs on immediate availability and prior I-Cube2 launch, web lines 73–85.

Samsung announced immediate I-Cube4 availability, integrating four HBM packages and one logic die on a silicon interposer. The release retrospectively dates the I-Cube2 launch to 2018.

PKG018 · Samsung Announces Silicon-Proven X-Cube 3D IC Availability
https://news.samsung.com/global/samsung-announces-availability-of-its-silicon-proven-3d-ic-technology-for-high-performance-applications
Samsung Electronics · 공개일 2020-08-13 · 조회 2026-10-17
위치: Main release paragraphs, web lines 73–84.

Samsung announced immediate availability of silicon-proven X-Cube design methodology and flow for 7nm and 5nm, with a 7nm test chip stacking SRAM on logic. It did not report a numerical production capacity or an HVM start.

PKG019 · Intel Foundry Advanced Packaging Innovations
https://www.intel.com/content/www/us/en/foundry/packaging.html
Intel · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: EMIB 2.5D, Production proven bullet, web lines 25–34; page accessed 2026-10-17.

The official product page states EMIB 2.5D has been in mass production since 2017 with Intel and external silicon. The page is a current retrospective product description, not a dated 2017 press release.

PKG020 · Intel Launches Lakefield Hybrid Processors
https://www.intc.com/news-events/press-releases/detail/1078/intel-hybrid-processors-uncompromised-pc-experiences-for
Intel · 공개일 2020-06-10 · 조회 2026-10-17
위치: Main launch text and Features & Capabilities, web lines 55–69. Business Wire release identifier contains 20200610.

The launch release identifies Lakefield as a shipping Intel Core product using Foveros 3D packaging, combining stacked logic dies and package-on-package memory.

PKG022 · Intel Opens Fab 9 in New Mexico
https://www.intc.com/news-events/press-releases/detail/1670/intel-opens-fab-9-in-new-mexico
Intel · 공개일 2024-01-24 · 조회 2026-10-17
위치: Why It Matters, web lines 67–79; release date confirmed by linked Business Wire 20240124 release.

Intel opened Fab 9 in Rio Rancho. Fab 9 and Fab 11x form the first operational site for mass production of Intel’s 3D advanced packaging technology and its first co-located high volume advanced packaging site. Absolute wafers/month were not stated.

DRAM·HBM 출하·가격·제품 이력

MEM011 · Samsung Electronics CY2024 Q4 Earnings Call script
https://irsvc.teletogether.com/sec/pdf/2024Q4_script_eng.pdf?1=
Samsung Electronics / IR webcast service · 공개일 2025-01-31 · 조회 2026-10-17
위치: Q&A printed pp25 and36 (PDF indices24,35)

CY2024Q4 DRAM bit growth low-teens 하락, ASP 약20% 증가, 레거시 DDR4/LPDDR4 매출 비중.

NAND·저장장치·SOI·SiC

NAND42 · Kioxia and Sandisk unveil next-generation flash at ISSCC2025
https://americas.kioxia.com/en-ca/business/news/2025/20250220-1.html
Kioxia / Sandisk · 공개일 2025-02-20 · 조회 2026-10-17
위치: generation10 preview paragraph

10세대332층 미리보기, 비트밀도59%개선 및4.8Gb/s인터페이스. 기술발표이지 양산확인 아님.

NAND43 · Kioxia starts samples of ninth-generation512Gb TLC
https://www.kioxia.com/en-jp/about/news/2025/20250725-1.html
Kioxia · 공개일 2025-07-25 · 조회 2026-10-17
위치: opening and120-layer paragraph

BiCS9 512GbTLC는120층으로샘플출하. 세대증가가 층수단조증가를 의미하지 않음.

NAND48 · YMTC64-layer Xtacking NAND into mass production
https://www.ymtc.com/en/news/30.html
YMTC · 공개일 2019-09-17 · 조회 2026-10-17
위치: opening; note1

본문2019-09-02행사에서64층256GbTLC양산발표. 게시일과사건일분리.

NAND49 · YMTC introduces128-layer1.33TbQLC
https://www.ymtc.com/en/news/29.html
YMTC · 공개일 2020-04-12 · 조회 2026-10-17
위치: opening

본문2020-04-13기준128층1.33TbQLC X2-6070이SSD플랫폼샘플검증통과.

NAND50 · YMTC Xtacking4.0 recognized atFMS2025
https://www.ymtc.com/en/news/41.html
YMTC · 공개일 2025-08-06 · 조회 2026-10-17
위치: product paragraph

Gen5/Xtacking4.0,SCT구조,X4-9070 1TbTLC,X4-6080 2TbQLC공식확인. 정수층수없음.

NAND55 · SoitecFY2026 Universal Registration Document
https://www.soitec.com/docs/default-source/agm-documents/2026/en/soitec---2025-2026-urd---va.pdf?amp%3Bsf_site=90bc9310-a429-4e2c-aee0-723d342d500e&amp%3Bsf_site_temp=true&sfvrsn=6bd9e43b_1%3Fsfvrsn%3D6bd9e43b_1
Soitec · 공개일 2026-06-10 · 조회 2026-10-17
위치: section1.6 Production sites, PDFp.32; AMF filing statement PDFp.3

Bernin1SOI75만200mm, Bernin2SOI80만300mm, SingaporeFY말약80만300mm, Bernin4SmartSiC15만장/년.2023최종50만목표와현재능력다름.날짜는프랑스원문AMF제출일.

고객별 EUV·High-NA 도입 이력

EUV001 · Making EUV: from lab to fab
https://www.asml.com/en/company/stories/2022/making-euv-lab-to-fab
ASML · 공개일 2022-03-30 · 조회 2026-10-17
위치: Toward industrialization; Achieving first light; EUV is here to stay; caption 'ASML shipped its 100th EUV machine in December 2020'

2006년 시제품, 2010년 삼성 연구소 NXE:3100 인도·첫 발광, 2013년 첫 NXE:3300 출하, 2020년 12월 100번째 EUV 출하, 2021년 말 고객 현장에서 최신 세대 127대 사용을 회고한다.

EUV002 · EUV lithography systems – Products
https://www.asml.com/en/products/euv-lithography-systems
ASML · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: The road to EUV > How EUV lithography was developed; From prototype to production

2006년 8월 데모 장비 출하, 2013년 첫 NXE:3300 출하를 기술한다. 100번째 EUV 출하의 시점을 'beginning of 2020'으로 적어 EUV001의 'December 2020'과 상충한다.

EUV003 · 5 things you should know about High NA EUV lithography
https://www.asml.com/en/company/stories/2024/5-things-high-na-euv
ASML · 공개일 2024-01-25 · 조회 2026-10-17
위치: Opening paragraph; What is High NA EUV lithography?

첫 High NA EXE:5000의 첫 모듈들이 2023년 12월 Intel로 출하되었다. 모듈 출하와 이후 현장 설치는 별도 단계다.

EUV004 · Intel and ASML strengthen their collaboration to drive High-NA into manufacturing in 2025
https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/intel-and-asml-strengthen-their-collaboration-drive-high-na-manufacturing-2025
ASML / Intel · 공개일 2022-01-19 · 조회 2026-10-17
위치: Paragraphs beginning 'Intel has issued its first purchase order' and 'Intel announced at its Accelerated event'

Intel의 첫 EXE:5200 구매 주문 발표. Intel이 2018년 EXE:5000을 처음 구매했다고 회고하고, High NA 생산 제조를 2025년에 시작하려던 당시 계획을 명시한다.

EUV005 · High NA EUV at Intel
https://www.intel.com/content/www/us/en/newsroom/resources/intel-high-na-euv.html
Intel · 공개일 2024-04-18 · 조회 2026-10-17
위치: Opening paragraph; Images captions 'Installation is complete and calibration started'; Video caption TWINSCAN EXE:5000

D1X Hillsboro에서 첫 EXE:5000을 수령·조립했고 2024년 4월 설치 완료 후 보정에 들어갔다. 시험 제조 시설에 배치된 장비다.

EUV008 · Intel says new ASML machines are in production, with positive results
https://www.reuters.com/technology/intel-says-first-two-new-asml-machines-are-production-with-positive-results-2025-02-24/
Reuters · 공개일 2025-02-25 · 조회 2026-10-17
위치: Corrected Feb.24 story, updated Feb.25; paragraphs 1–3 and clarification on 18A testing

Intel 엔지니어 Steve Carson의 SPIE 발언: High NA 2대 사용과 한 분기 30,000장 처리. 시험·R&D 맥락이며 상업적 HVM으로 읽지 않는다.

EUV010 · Intel Foundry and ASML Collaborate to Accelerate Industry Readiness for High NA EUV
https://www.intel.com/content/www/us/en/newsroom/news/intel-foundry/intel-foundry-asml-accelerate-industry-readiness-for-high-na-euv.html
Intel / ASML · 공개일 2026-09-07 · 조회 2026-10-17
위치: Opening subtitle; first bullet under 'shared the following updates'

High NA 누적 처리 웨이퍼가 100만 장을 넘었다고 발표. 초기 장비 인증·시험, R&D, 일부 Panther Lake 특정층 양산이 모두 포함된다.

EUV015 · TSMC accounts for half of industry's EUV equipment installation base and wafer production
https://www.techspot.com/news/86562-tsmc-accounts-half-industry-euv-equipment-installation-base.html
TechSpot · 공개일 2020-08-29 · 조회 2026-10-17
위치: Paragraph beginning 'However, TSMC also revealed'; embedded Ian Cutress Aug.27 post

2020년 기술 심포지엄 발표를 인용하여 설치 기반 약 50%, 누적 EUV 웨이퍼 생산 약 60%라고 보도한다. 기사 안의 기자 추정 장비 절대 대수는 이 데이터에 채택하지 않는다.

EUV017 · TSMC Outlines Path to EUV Success: More Tools, More Wafers, & Best Pellicles In Industry
https://www.inkl.com/news/tsmc-outlines-path-to-euv-success-more-tools-more-wafers-best-pellicles-in-industry
AnandTech (licensed via inkl) · 공개일 2024-05 · 조회 2026-10-17
위치: Table 'TSMC’s Leadership in EUV High Volume Manufacturing' and immediately preceding text

TSMC 발표를 편집한 표는 2019년 설치 기반 42%, 2023년 56%, 장비 수 10배, wafer output 30배를 제시한다. 본문 일부는 2024년이라고 쓰지만 표와 EUV016 회사 인용문은 2023년이다.

EUV019 · TSMC 2025 Annual Report
https://investor.tsmc.com/sites/ir/annual-report/2025/2025%20Annual%20Report.E.pdf
TSMC · 공개일 2026 · 조회 2026-10-17
위치: Printed pp.104–105; PDF p.52; 5.2.2 R&D Accomplishments in 2025 > Lithography Technology

2025년에 High NA EUV 스캐너용 리소그래피 기술 개발을 시작했다고 보고한다. 장비 대수나 실제 설치 여부는 해당 문장에서 공개하지 않는다.

EUV020 · ASML and TSMC Announce Initiative to Pioneer Industry Transition to Large-Format Photomasks for High NA EUV
https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-and-tsmc-announce-initiative-pioneer-industry-transition-large-format-photomasks-high-na-euv
ASML / TSMC · 공개일 2026-09-08 · 조회 2026-10-17
위치: Paragraph 'TSMC intends to use ASML’s High NA technology'; news highlights

TSMC는 High NA를 2030년부터 advanced-node HVM에 사용할 의향을 밝혔다. 대형 photomask 시범 라인 2031년, 해당 마스크용 리소그래피 준비 2033년은 별도 계획이다.

EUV025 · Samsung Reaches Key Milestone at New Semiconductor R&D Complex
https://news.samsung.com/ca/samsung-reaches-key-milestone-at-new-semiconductor-rd-complex
Samsung Electronics · 공개일 2024-11-20 · 조회 2026-10-17
위치: Subtitle; NRD-K R&D line paragraph; final paragraph before tags

NRD-K tool-in 행사를 개최했지만 High NA 자체는 'will be set up'이라는 미래형이다. 연구 라인은 2025년 중반 가동 계획이었다.

EUV026 · Samsung Electronics and ASML Expand Strategic Collaboration for Next-Generation Semiconductor Manufacturing
https://news.samsungsemiconductor.com/global/samsung-electronics-and-asml-expand-strategic-collaboration-for-next-generation-semiconductor-manufacturing/
Samsung Electronics / ASML · 공개일 2026-09-08 · 조회 2026-10-17
위치: Paragraph beginning 'Samsung also plans to introduce'

High NA EUV를 DRAM 고량 양산에 2028년까지 도입할 계획. 장비 수·구체 노드·실제 양산 시작은 공개하지 않는다.

EUV029 · SK hynix Introduces Industry’s First Commercial High NA EUV
https://news.skhynix.com/en/sk-hynix-introduces-industrys-first-commercial-high-na-euv/
SK hynix · 공개일 2025-09-03 · 조회 2026-10-17
위치: Body dateline Sep.3, 2025; opening paragraph; model description. Page metadata shows Sep.2

M16 Icheon에서 EXE:5200B 조립 기념 행사. 양산용 시스템 조립을 확인하나 High NA DRAM 양산 시작이나 전체 보유 대수는 확인하지 않는다.

EUV030 · Micron Fiscal Q3 2021 Prepared Remarks
https://investors.micron.com/index.php/static-files/e68755e8-3a81-42ed-b563-a4ef600f27ab
Micron Technology · 공개일 2021-06-30 · 조회 2026-10-17
위치: Prepared remarks, EUV paragraph, p.6; indexed text available, legacy URL may fail or redirect

장기 물량 계약의 일환으로 ASML 복수 EUV 장비 구매 주문을 발행했고, 당시 EUV를 2024년부터 DRAM에 넣을 계획이었다. 정수 대수는 공개하지 않았다.

EUV031 · Micron Fiscal Q4 2021 Prepared Remarks
https://investors.micron.com/index.php/static-files/4ddec623-7f31-44fb-b6f8-1574068a6435
Micron Technology · 공개일 2021-09-28 · 조회 2026-10-17
위치: Prepared remarks, paragraph 'Adding momentum to our years of R&D in extreme ultraviolet'; indexed text; legacy URL currently redirects or fails

Boise R&D 본사에서 NXE:3600 최신 EUV 시스템을 인도받았다고 발표. Micron 최초의 모든 EUV 장비라는 표현은 없으며 당시 2024년 HVM 목표와 연결했다.

EUV032 · Micron to Bring EUV Technology to Japan, Advancing Next-Generation Memory Manufacturing
https://investors.micron.com/news/press-release/2023/Micron-to-Bring-EUV-Technology-to-Japan-Advancing-Next-Generation-Memory-Manufacturing-05-17-2023/default.aspx
Micron Technology · 공개일 2023-05-17 · 조회 2026-10-17
위치: Paragraph 'Micron continues to make progress on its EUV integration plans'

Hiroshima의 1-gamma 개발·제조를 위해 EUV를 도입하고 대만·일본에서 2025년 이후 생산 램프업할 계획이었다.

EUV035 · Micron Fiscal Q4 2025 Prepared Remarks
https://investors.micron.com/static-files/5ea95475-639b-4cfc-91fd-b9b4a2bb5e63
Micron Technology · 공개일 2025-09-23 · 조회 2026-10-17
위치: Technology / manufacturing remarks, paragraph 'In fiscal Q4 we installed the first EUV tool for our Japan fab'; indexed text; legacy URL currently redirects

FY2025 Q4 일본 팹의 첫 EUV tool 설치 완료를 명시한다. 대만의 기존 1γ 공급을 보완하기 위한 장비다.

EUV036 · Micron 2025 Definitive Proxy Statement
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/723125/000072312525000038/mu-20251125.htm
Micron Technology / SEC · 공개일 2025-11-25 · 조회 2026-10-17
위치: Printed p.38; Fiscal 2025 achievements; expanded global manufacturing capabilities bullet

FY2025 성과로 일본 첫 EUV 장비 설치 및 대만 1γ 생산 역량 보완을 재확인한다. EUV035의 설치 사건과 동일하므로 별도 설치로 더하지 않는다.

EUV037 · TSMC’s N7+ Technology is First EUV Process Delivering Customer Products to Market in High Volume
https://pr.tsmc.com/japanese/news/2010
TSMC · 공개일 2019-10-07 · 조회 2026-10-17
위치: Opening paragraphs; paragraph beginning The N7+ volume production

2019년 2분기 N7+ 양산 시작, 10월 발표 시점 고객 제품 고량 공급을 명시한다.

EUV038 · TSMC Unveils 6-nanometer Process
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/1046179/000119312519107268/d632256d6k.htm
TSMC / SEC · 공개일 2019-04-16 · 조회 2026-10-17
위치: Press release dated April16,2019; paragraph beginning By leveraging the new capabilities in extreme ultraviolet

N6가 N7+에서 확보한 EUV 기술을 적용한 공정이라고 명시한다. 당시 2020년1분기 risk production 계획과 후속 실제 양산을 구분해야 한다.

중국 DRAM·제품·생산능력

CNE001 · CXMT corporate history
https://www.cxmt.com/en/about.html
CXMT · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: CXMT History, HTML lines 119–122

History records DDR4 tape-out July 2018, successful test May 2019, mass-production announcement September 2019 and first order/sales November 2019.

CNE002 · CXMT unveils LPDDR5 product lineup
https://www.cxmt.com/en/news/info_15.html
CXMT · 공개일 2023-11-28 · 조회 2026-10-17
위치: Newsroom body, HTML line 90

Official release launches 12Gb dies and 6GB/12GB mobile DRAM; 12GB package already validated by Xiaomi and Transsion.

CNE003 · CXMT Announces LPDDR5X Mass Production
https://www.cxmt.com/en/news/info_19.html
CXMT · 공개일 2025-10-28 · 조회 2026-10-17
위치: Newsroom body, HTML lines 90–91

8533/9600Mbps products entered mass production in May 2025; 10667Mbps was available for customer sampling at publication.

CNE004 · CXMT Debuts Latest DDR5 & LPDDR5X Portfolio at IC China
https://www.cxmt.com/en/news/info_20.html
CXMT · 공개일 2025-11-23 · 조회 2026-10-17
위치: Body, HTML lines 90–92

Company displayed DDR5 up to 8000Mbps/24Gb plus multiple module form factors. This release says showcased, not a quantitative mass-production ramp.

CNE005 · CXMT Products and Services
https://www.cxmt.com/en/product.html
CXMT · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: LPDDR4X section, HTML lines 179–181

Current company product page includes LPDDR4X alongside newer DRAM families; this undated page is a retrieval-time portfolio snapshot.

CNE006 · CXMT Announces Mass Production of 5th-Generation DRAM Technology Platform
https://www.cxmt.com/en/news/info_22.html
CXMT · 공개일 2026-09-20 · 조회 2026-10-17
위치: Body, HTML lines 91,97,102–109

G5 platform and 24Gb LPDDR5X products announced in mass production; company gives array active-area half-pitch 11.95nm and normalized gross die-per-wafer uplift.

CNE007 · CXMT Pioneers Mass-Production of LPDDR6
https://www.cxmt.com/en/news/info_21.html
CXMT · 공개일 2026-09-07 · 조회 2026-10-17
위치: Body, HTML lines 90–92

Company states LPDDR6 entered mass production, packaged capacity 16GB, die capacity 16Gb, max rate 12800Mbps and SoC operating rate 10667Mbps.

CNE008 · Sector Issue Brief: memory supply/demand update
https://msg.ls-sec.co.kr/eum/K_20251010_31780_171.pdf
LS Securities, chart attributed to TrendForce · 공개일 2025-10-10 · 조회 2026-10-17
위치: Printed p.2 (PDF index 1), CXMT Capa 추이 및 전망

Public chart CXMT Capa trend/outlook shows 2020 45k, 2021 50k, 2022 57k, 2023 122k, 2024 210k, 2025E 280k, 2026E 290k per month.

설비투자·R&D·감가상각

FIN_TS_2005 · TSMC Form 20-F 2005
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/20F-2005.pdf
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Item 3 selected financial data / Item 5 operating expenses, liquidity and capital expenditures

CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2010 · TSMC Form 20-F 2010
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/20F-2010.pdf
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Item 3 selected financial data / Item 5 operating expenses, liquidity and capital expenditures

CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2011 · TSMC Form 20-F 2011
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TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
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CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2015 · TSMC Form 20-F 2015
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TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
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CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2016 · TSMC Form 20-F 2016
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CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2018 · TSMC Form 20-F 2018
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CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2020 · TSMC Form 20-F 2020
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/2020%2020-F.pdf
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
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CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2021 · TSMC Form 20-F 2021
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/2021%2020-F.pdf
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Item 3 selected financial data / Item 5 operating expenses, liquidity and capital expenditures

CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2022 · TSMC Form 20-F 2022
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/2022%2020-F.pdf
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Item 3 selected financial data / Item 5 operating expenses, liquidity and capital expenditures

CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_TS_2024 · TSMC Form 20-F 2024
https://investor.tsmc.com/sites/ir/sec-filings/2024%2020-F.pdf
TSMC · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: Item 3 selected financial data / Item 5 operating expenses, liquidity and capital expenditures

CAPEX·감가상각·R&D 공시 원표. R.O.C. GAAP와 IFRS 전환·연결 범위를 보존하며 환율 변환하지 않음.

FIN_SS_2025 · Samsung Electronics 2025 Q4 Earnings Call Script
https://irsvc.teletogether.com/sec/pdf/2025Q4_script_eng.pdf
Samsung Electronics · 공개일 2026-01-29 · 조회 2026-10-17
위치: PDF p.6, Capital expenditures paragraph, full-year total and DS split

2025 실제 총 CAPEX52.7조원,DS47.5조원. IR 웹공시 본문에 발표연도2025오기가 있어 공식2025Q4스크립트로 기준 확정.

FIN_MU_2025 · Micron Form10-K FY2025
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/723125/000072312525000028/mu-20250828.htm
Micron Technology / SEC · 공개일 2025-10-03 · 조회 2026-10-17
위치: Item8 Consolidated Statements of Cash Flows / Statements of Operations; FY2026 PDF-equivalent printed p.70 cashflow / p.67 income statement

現금 PPE구매·보조금·상각·R&D 원표. FY를 CY로 바꾸지 않음.

FIN_MU_2026 · Micron Form10-K FY2026
https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/723125/000072312526000023/mu-20260903.htm
Micron Technology / SEC · 공개일 2026-10-09 · 조회 2026-10-17
위치: Item8 Consolidated Statements of Cash Flows / Statements of Operations; FY2026 PDF-equivalent printed p.70 cashflow / p.67 income statement

現금 PPE구매·보조금·상각·R&D 원표. FY를 CY로 바꾸지 않음.

지역별 반도체 제조장비시장

EQM01 · SEMI2017 Global Semiconductor Equipment Sales
https://www.semi.org/ko/Global-Equipment-Sales-56-6-Billion
SEMI/SEAJ · 공개일 2018-04-05 · 조회 2026-10-17
위치: Semiconductor Capital Equipment Market by World Region (2016–2017)

2016–2017지역별장비판매표;세계합계41.24/56.62십억USD.

EQM04 · SEMI2023 equipment billings, Japanese official table
https://www.semi.org/jp/taxonomy/term/76?page=6
SEMI Japan/SEAJ · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: 2023年世界半導体製造装置販売額は1,063億ドルに減少; 2022–2023 regional table

공식일본어보존페이지의2022–2023세부표. 원통계발표2024-04-10,번역페이지최초공개일미확인. 영어본문의106.3/107.6반올림대신세부표106.25/107.64사용.

EQM05 · SEMI2025 equipment billings, Japanese official table
https://www.semi.org/jp/taxonomy/term/76?page=1
SEMI Japan/SEAJ · 공개일 정확한 날짜 미확인 · 조회 2026-10-17
위치: 世界半導体製造装置販売額は2025年に15%増;2024–2025 regional table

공식일본어보존페이지의2024–2025지역별표.세계합계117.14/135.06십억USD.본사보도자료135.1은반올림.번역페이지최초공개일미확인.